Halbleiter-Phosphorsäure: Rasas neues Werk in Taiwan
Ein Lieferant teilt Ihrer Fab mit, dass die nächsten Lose Phosphorsäure aus einem neuen Werk in Taiwan, Korea oder den USA kommen können. Produktname und Reinheitsangabe bleiben gleich. Entscheidend ist, ob sich die Säure in Ihrem heißen Bad genauso verhält und wie viel Qualifizierungsaufwand dafür nötig ist.
Phosphorsäure in Halbleiterqualität ist die Ätzlösung, die Siliziumnitrid (Si3N4) entfernt und Siliziumoxid (SiO2) dabei kaum angreift. Am 30. September 2026 kündigte das japanische Unternehmen Rasa Industries, das nach eigener Aussage den weltweit größten Marktanteil bei diesem Produkt hält, ein zweites Werk in Taichung (Taiwan) an. Das Investitionsvolumen beträgt rund 3,8 Mrd. NT$ (etwa 18,8 Mrd. ¥ oder ungefähr 119 Mio. US$).
Dieser Beitrag behandelt die Ätzchemie, den Unterschied zwischen Elektronik- und Industriequalität sowie die Produktionsstandorte von Rasa und anderen Anbietern. Anschließend geht es darum, was ein Einkäufer vor der Freigabe eines neuen Standorts prüfen sollte. Eine Checkliste, ein Fragenkatalog für die japanische Seite und eine E-Mail-Vorlage folgen gegen Ende.
Inhalt
- Was heiße Phosphorsäure in der Fab leistet
- Industrie- und Elektronikqualität: Gehalt ist nicht Reinheit
- Was Rasa angekündigt hat
- Wo die Säure hergestellt wird: Japan, Taiwan, Korea und USA
- Warum Chemielieferanten nahe an den Fabs bauen
- Was sich ändert, wenn ein japanischer Lieferant im Ausland baut
- Checkliste: Neuen Lieferstandort qualifizieren
- Fragen an die japanische Seite
- Grenzen dieses Beitrags
- FAQ
- Quellen
Was heiße Phosphorsäure in der Fab leistet
Die Front-End-Waferprozessierung wiederholt eine Schleife viele Dutzend Mal: Schicht abscheiden, strukturieren, ätzen, reinigen. Hochreine Phosphorsäure gehört zum Nassätzen, bei dem eine Flüssigkeit eine Schicht auflöst. Rasa beschreibt sein Produkt als Nassätzchemikalie für den Front-End-Bereich, eingesetzt bei Logik- und Speicherbauelementen (NAND und DRAM).
Siliziumnitrid ist hart und chemisch beständig. Prozessabläufe nutzen es deshalb als Maske zum Schutz darunterliegender Schichten und als Isolier- oder Schutzschicht. Hat das Nitrid seine Aufgabe erfüllt, taucht man den Wafer üblicherweise in Säure, die auf etwa 160 °C erhitzt ist. Abbildung 1 zeigt das Ergebnis.
Entfernt werden soll nur das Siliziumnitrid. Das darunterliegende Oxid soll weitgehend erhalten bleiben.
Stark vereinfachte Skizze. Schichtdicken und Geometrie variieren je nach Prozess, und auch vom Oxid wird eine geringe Menge abgetragen.
Trocken- und Nassätzen sind getrennte Schritte in dieser Schleife. Abbildung 2 zeigt, wo der Phosphorsäureschritt sitzt. Das hilft im Gespräch mit Einkauf oder Logistik, die nicht in der Fab arbeiten.
Abscheiden, Strukturieren, Ätzen und Reinigen wiederholen sich viele Dutzend Mal. Die Phosphorsäure übernimmt einen Teil des Ätzens.
Reihenfolge und Anzahl der Schritte hängen vom Bauelement ab. Von der Redaktion vereinfacht nach der Prozessübersicht von SCREEN.
Selektivität: Nitridätzrate zu Oxidätzrate
Die Selektivität ist das Verhältnis der Nitridätzrate zur Oxidätzrate. Bei 50:1 trägt das Bad zum Beispiel 50 nm Nitrid ab, während es 1 nm Oxid abträgt. Veröffentlichte Werte streuen stark, weil sie von Schicht, Temperatur und Zustand des Bades abhängen.
Die folgenden Beispiele stammen aus konkreten Versuchsaufbauten. Verstehen Sie sie als Einordnung, nicht als Zielwerte oder Spezifikation.
- Etwa 24:1, steigend auf 50:1 oder mehr: frisches Bad im Vergleich zum selben Bad nach etwa 1.000 Nitrid-Wafern, laut einem US-Patent zu einem Prozess bei rund 165 °C
- 30:1: 85-%-Säure bei 165 °C in einer 28-nm-Spacer-Entfernung (STMicroelectronics, 2015)
- Über 100:1: ein sorgfältig abgestimmtes heißes Bad für 3D-NAND (Tokyo Electron, 2015)
Merken sollten Sie sich den Unterschied zwischen frischem und gebrauchtem Bad. Die gekaufte Säure legt den Ausgangszustand fest. Was danach passiert, bestimmen Anlage und Badführung.
Siliziumkonzentration: ein enges Fenster
Gelöstes Silizium bremst das Oxidätzen: Je mehr Silizium im Bad ist, desto niedriger ist die Oxidätzrate. Beim Nitridätzen gelangen Siliziumreaktionsprodukte in die Säure, und Bäder werden meist zusätzlich mit Siliziumdioxid (Silica) vorbeladen. Deshalb kann ein gebrauchtes Bad selektiver sein als ein frisches.
Dasselbe Silizium bringt auch das Hauptrisiko mit. Oberhalb einer kritischen Konzentration fällt es als Siliziumdioxid aus. Ein US-Patent nennt für 165 °C eine Sättigung von etwa 120 ppm und bezeichnet das ausgefallene Siliziumdioxid als wesentliche, ausbeutemindernde Partikelquelle.
Abbildung 3 zeigt diesen Zielkonflikt.
Silizium verbessert die Selektivität, bis es sich abzuscheiden beginnt. Das Bad muss zwischen beiden Grenzen bleiben.
Es sind keine Werte angegeben, weil das Fenster von Anlage, Temperatur, Schicht und Chemie abhängt. Es wird vom Prozessverantwortlichen festgelegt.
Anlagenhersteller konstruieren um dieses Fenster herum. Shibaura Mechatronics gibt für seine Einzelwafer-Anlage SC300-HT an, die Säure bei 160 °C oder höher zu halten und die Siliziumkonzentration zu regeln, um hohe Selektivität zu erreichen. Patente beschreiben außerdem das Zudosieren frischer heißer Säure zur Wiederherstellung des Siliziumgehalts und das Zugeben von deionisiertem Wasser als Ersatz für verdampftes.
Deshalb beantwortet ein sauberes Analysenzertifikat (Certificate of Analysis) die Frage nicht allein. Die Säure muss auch nach dem Aufheizen und bei wiederholter Nutzung in Ihrer Anlage stabil arbeiten. Eine neue Quelle braucht daher eine Bewertung im realen Prozess.
3D-NAND: Nitrid von der Seite entfernen
Ein 3D-NAND-Stapel besteht aus abwechselnden Oxid- und Nitridlagen, und das Nitrid wird später seitlich herausgelöst. Die Ätzung muss es oben und unten im Stapel sowie über den Wafer gleichmäßig entfernen, ohne das Oxid anzugreifen. Entegris beschrieb diesen Schritt 2018 in einem Whitepaper als Herausforderung für das Nassätzen, sobald die Aspektverhältnisse bei etwa 50:1 liegen.
Laut diesem Whitepaper kam unterhalb von 96 Lagen heiße Phosphorsäure bei etwa 160 °C zum Einsatz. Ab 96 Lagen sei eine speziell formulierte Chemie nötig, um das Prozessfenster zu verbessern. Entegris verkauft formulierte Chemien. Lesen Sie das also als Sicht eines Lieferanten und prüfen Sie, was Ihr eigener Technologieknoten verwendet.
Auch hier ist Siliziumdioxid ein Thema, denn Patente beschreiben kolloidales Siliziumdioxid, das auf freiliegendem Oxid wächst und die Nitridentfernung behindert. Forscher von Tokyo Electron führten Ungleichmäßigkeiten innerhalb eines Wafers und zwischen Wafern hauptsächlich auf Temperaturunterschiede im Bad zurück.
Klären Sie deshalb zuerst, ob Sie reine Phosphorsäure in Elektronikqualität oder eine formulierte Ätzlösung kaufen. Beide erfordern unterschiedliche Fragen.
Industrie- und Elektronikqualität: Gehalt ist nicht Reinheit
Der Gehalt (japanisch 含量, ganryo) gibt an, wie viel H3PO4 in der Flüssigkeit steckt. Schon Industriesäure wird üblicherweise mit etwa 85 % geliefert, ein hoher Gehalt sagt also nichts über die Eignung für eine Fab aus. Für Halbleiter zählen strengere Fragen: wie wenig Metalle wie Eisen und Natrium die Säure enthält und wie wenige Partikel sie mitbringt.
Abbildung 4 vergleicht beide Qualitäten anhand veröffentlichter Beispiele von zwei japanischen Herstellern.
Beide sind H3PO4, doch der Käufer prüft andere Merkmale mit sehr unterschiedlicher Strenge.
Die Werte sind veröffentlichte Beispiele für einzelne Produkte von Rasa (Industriequalität) und Rin Kagaku Kogyo (EL-S), keine branchenweiten Grenzwerte.
Von ppm zu ppt
Veröffentlichte Werte für Elektronikqualität sind rar. Rin Kagaku Kogyo nennt für seine Spitzenqualität EL-S Partikelgrenzen (200/ml bei 0,2 µm, 70/ml bei 0,3 µm und 20/ml bei 0,5 µm) und verweist für weitere Fragen an den Vertrieb. Maßgeblich sind die Spezifikation Ihrer Fab und die gelenkte Spezifikation des Lieferanten.
SEMI C36 (aktuelle Revision C36-1121) ist die SEMI-Spezifikation für Phosphorsäure-Qualitäten in der Halbleiterfertigung. Ihre Prüfverfahren müssen die Validierungsanforderungen von SEMI C1 erfüllen. Das Dokument ist kostenpflichtig, daher geben wir die Grenzwerte hier nicht wieder. Fragen Sie den Lieferanten, welche Qualität und Revision sein Produkt erfüllt, falls überhaupt.
Eine DIN- oder EN-Norm, die SEMI C36 für Halbleiterqualität entspricht, ist uns nicht bekannt. In der Praxis zählen daher SEMI C36 und die Kundenspezifikation.
Zur Orientierung hilft der Blick auf eine andere Chemikalie. Mitsubishi Gas Chemical zitiert die Internationale Roadmap für Bauelemente und Systeme (IRDS) 2022 für 30-prozentiges Wasserstoffperoxid vom Lieferanten. Die Roadmap verschärft jedes Metall von 10 Teilen pro Billion (ppt) im Jahr 2021 auf 5 ppt ab 2024 und die Grenze für 20-nm-Partikel von 500/ml auf 200/ml bis 2027. Das sind keine Grenzwerte für Phosphorsäure.
Die Messung gehört zur Spezifikation. Spurenmetalle in 85-prozentiger Säure in Halbleiterqualität lassen sich mit Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS) bestimmen. Eine Applikationsschrift von Agilent nennt Nachweisgrenzen im ppt-Bereich, gemessen in der Säure nach etwa hundertfacher Verdünnung. Ein Ergebnis „unter X“ sagt wenig, solange Sie die Bestimmungsgrenze des jeweiligen Labors nicht kennen.
Thermisches Verfahren und Nassverfahren
Japanische Unterlagen sprechen von 乾式法 (kanshiki-ho, „Trockenverfahren“) und meinen damit das thermische Verfahren. Dabei wird gelber Phosphor zu Phosphorpentoxid verbrannt, das anschließend mit Wasser reagiert. Beim 湿式法 (shisshiki-ho, Nassverfahren) wird Phosphatgestein mit Schwefelsäure oder einer anderen Säure aufgeschlossen.
Rasa gibt an, den Weg über gelben Phosphor zu nutzen. Rin sagt, seine Elektronikqualitäten entstünden im verunreinigungsarmen Trockenverfahren. Säure aus dem Nassverfahren bringt mehr Verunreinigungen aus dem Gestein mit, lässt sich aber weiter reinigen, daher qualifiziert oder disqualifiziert der Herstellweg ein Produkt nicht allein. Dokumentieren Sie ihn trotzdem, damit Sie eine spätere Änderung bemerken.
Was Rasa angekündigt hat
Rasa Industries wurde 1913 gegründet und stellt Phosphorchemikalien, hochreine Werkstoffe für Verbindungshalbleiter sowie Brech- und Tunnelbaumaschinen her. Im Geschäftsjahr bis März 2026 betrug der Umsatz 47,7 Mrd. ¥ (etwa 303 Mio. US$). Davon entfielen 16,8 Mrd. ¥ oder 35,2 % auf hochreine Phosphorsäure. Der weltweit größte Marktanteil ist Rasas eigene Angabe, die wir nicht unabhängig geprüft haben.
Abbildung 5 fasst die Ankündigung zusammen. Alle US-Dollar-Beträge in diesem Beitrag sind eigene Überschlagsrechnungen zu den in der Abbildungsnotiz genannten Kursen.
Eine Erweiterung des bestehenden Werks ging im April 2026 in Betrieb. Das neue Werk ist der nächste Schritt.
Quellen: Rasas Mitteilung vom 30. September 2026 und die Ergebnispräsentation für das Geschäftsjahr bis März 2026. Die Yen-Werte nutzen Rasas Kurs von 1 NT$ = 4,94 ¥ (30. September 2026). Die Dollar-Werte sind unsere Umrechnung mit 31,89 NT$ = 1 US$ (Mittelkurs desselben Tages), das entspricht etwa 157,5 ¥ = 1 US$. Euro-Werte geben wir bewusst nicht an.
Bauherrin ist Rasa Technology Taiwan Ltd. (RTT, 理盛精密科技), eine hundertprozentige Tochter, die im Dezember 2003 im Bezirk Wuqi in Taichung gegründet wurde.
Das zweite Werk entsteht im selben Park wie das erste, dem Taichung Port Technology Industrial Park (臺中港科技產業園區). Rasa finanziert es aus Eigenmitteln und Krediten.
Rasa nennt drei Gründe für die Investition:
- Taiwan ist einer der weltweit führenden Halbleiterstandorte, mit Schwerpunkt auf fortgeschrittener Logik.
- Generative KI und Rechenzentren dürften die Nachfrage nach Halbleitern weiter steigern.
- Der Bedarf an mehr hochreiner Phosphorsäure wächst in Taiwan weiter.
Der Umsatz von RTT stieg von 1.232 Mio. NT$ im Jahr 2020 auf 2.592 Mio. NT$ im Jahr 2025. Darin stecken Preis- und Produktmixeffekte, lesen Sie die Zahl also nicht als Mengenwachstum. Rasa erwartet zudem für das Geschäftsjahr bis März 2027 nur geringe Auswirkungen auf das Ergebnis, das Werk ist also kein kurzfristiges Versorgungsereignis.
Die Mitteilung nennt weder Kapazität noch Kunden noch einen Termin für die erste qualifizierte Lieferung. „GJ 2028“ ist außerdem nicht an einen Monat gebunden. Rasas Geschäftsjahr endet im März, das von RTT im Dezember. Fragen Sie deshalb nach, welcher Kalender gilt.
Wo die Säure hergestellt wird: Japan, Taiwan, Korea und USA
Rasa nennt neben der Qualität die Produktion und den Vertrieb vor Ort als Stärke. Abbildung 6 zeigt die Versorgungskarte, wie sie Investoren im Juni 2026 präsentiert wurde.
Die Werke liegen in Regionen mit hoher Fab-Dichte und beliefern vor allem Kunden dieser Region.
Quelle: Rasas Ergebnispräsentation für das Geschäftsjahr bis März 2026. Die Präsentation zeigt auch chinesische, koreanische und taiwanische Chiphersteller mit Fertigung in China als Markt, doch der Produktionsplan für vier Länder enthält kein Werk in China.
Rasas Wertpapierbericht nennt den koreanischen Partner SoulbrainRASA Co., Ltd. in Gongju (Provinz Süd-Chungcheong). Rasa hält 39,0 % der Stimmrechte. Rasa konsolidiert diese Gesellschaft nicht. Gehen Sie also nicht davon aus, dass sie nach Rasas Qualitätssystem arbeitet oder dass Rasa für ihre Standortdaten einstehen kann.
Rasas Präsentation nennt den US-Standort nicht. Im Juni 2026 gab das Büro des Gouverneurs von Texas einen staatlichen Zuschuss von 11,6 Mio. US$ an Soulbrain RASA TX LLC für dessen erste US-Produktionsstätte in Taylor, Texas, bekannt. Das Projekt umfasst mehr als 120 Mio. US$, wobei Phase 1 eine Jahreskapazität von 28.800 t „hochselektiver, hochreiner“ Phosphorsäure anstrebt.
Name und Produkt passen zu Rasas Beschreibung, doch keines der beiden Dokumente stellt den Zusammenhang ausdrücklich her. Ein Branchenbericht bezeichnet die Texas-Gesellschaft als Tochter von Soulbrain Holdings. Behandeln Sie die Verbindung als unbestätigt. Wenn Sie diese Quelle bewerten, fragen Sie, wem das Werk gehört und welche Spezifikation gilt.
Rasa ist nicht die einzige Option. Die folgende Tabelle nennt weitere Anbieter, die wir aus öffentlichen Quellen bestätigen konnten, und ist keine vollständige Marktliste.
| Anbieter | Standort | Was wir bestätigen konnten |
|---|---|---|
| Rin Kagaku Kogyo | Japan | Qualität EL (Ätzen von Elektronikmaterialien) und Qualität EL-S (Ätzen von Halbleiter-Wafern), im Trockenverfahren hergestellt. EL-S gibt es in Kanistern zu 25 oder 30 kg, Fässern zu 300 kg und 10-t-Tankwagen |
| OCI | Südkorea | Jahreskapazität 25.000 t. Teilte im September 2024 mit, als erstes koreanisches Unternehmen hochreine Phosphorsäure an alle koreanischen Chiphersteller zu liefern, darunter Samsung Electronics, SK Hynix, SK Keyfoundry und DB HiTek (Angabe von OCI laut KED Global) |
| Soulbrain RASA TX | USA (Taylor, Texas) | Zielkapazität Phase 1: 28.800 t pro Jahr laut Büro des Gouverneurs von Texas (Juni 2026). Die Ankündigung nennt keinen Eröffnungstermin |
Warum Chemielieferanten nahe an den Fabs bauen
Rasas Mitteilung verweist auf die Nachfrage, sagt aber wenig dazu, warum der Standort wichtig ist. Mitsubishi Gas Chemical, das nach eigener Aussage rund 50 % des Weltmarkts für ultrareines Wasserstoffperoxid hält, ist deutlicher. Das Unternehmen beschreibt die Produktion am Verbrauchsort als Weg, schnell auf Kunden zu reagieren und Logistikkosten niedrig zu halten, und sagt, die Nähe beschleunige auch das Kundenfeedback zu neuen Produkten.
Phosphorsäure hat eigene Logistikfragen. Rasas veröffentlichte Industriequalitäten nennen eine relative Dichte von mindestens 1,58 bis mindestens 1,73, die konzentrierte Säure ist also schwer zu bewegen. Sicherheitsdatenblätter, die wir geprüft haben, ordnen 85-prozentige Säure als UN 1805, Klasse 8, Verpackungsgruppe III ein, und die meisten geben einen Gefrier- oder Schmelzpunkt nahe 21 °C an. Fragen Sie den Lieferanten, wie er das Produkt im Transport und bei kalter Lagerung schützt.
Wer aus Taiwan, Korea oder den USA in die EU liefert, muss außerdem die europäischen Pflichten erfüllen. Dazu gehören die Registrierung nach REACH und ein Sicherheitsdatenblatt in der Amtssprache des Bestimmungslands. Klären Sie, wer die Registrierung trägt, bevor der erste Lieferstandort wechselt.
Ein lokales Werk hilft dem Käufer, aber nicht automatisch. Abbildung 7 stellt die wahrscheinlichen Vorteile dem gegenüber, was noch nachzuweisen ist.
Nutzen Sie die linke Spalte für die Wirtschaftlichkeitsbetrachtung und die rechte für die Planung der Qualifizierung.
- Kürzere Transportwege, niedrigere Logistikkosten und weniger Risiko unterwegs
- Liefermengen, die mit Ihrem Hochlauf oder einer neuen Linie mitwachsen können
- Engere Abstimmung zu Lagerbestand und Lieferterminen
- Schnelleres Feedback zwischen Ihren Prozessergebnissen und dem Lieferanten
- Eine Absicherung gegen Katastrophen und Logistikstörungen, wenn mehr als ein Standort qualifiziert ist
- Das Produkt des neuen Standorts besteht Ihre Bewertung und Qualifizierung
- Rohstoffe und hochreine Analytik sind vor Ort vorhanden
- Der Standort hat geschulte Mitarbeiter und Zeit, um die Qualität des ursprünglichen Standorts zu erreichen
- Die regionale Nachfrage trägt das Werk langfristig
- Der Lieferant kann Werk und Schulden durch einen Abschwung tragen
Allgemeine Punkte, von der Redaktion zusammengestellt. Rasa hat sie nicht als Gründe für seine Entscheidung genannt.
Fertigstellung eines Werks ist nicht gleich qualifizierte Lieferung. Nach dem Bau muss der Lieferant noch Muster liefern, die Bewertung im Prozess des Kunden bestehen und die förmliche Freigabe erreichen. Planen Sie diese Lücke in Ihre Beschaffung ein, denn der veröffentlichte Termin betrifft nur die Fertigstellung.
Auch andere japanische Anbieter von Prozesschemikalien bauen oder kaufen Kapazität in Taiwan. Chemikalien und Anwendungen unterscheiden sich, vergleichen Sie diese Projekte deshalb nicht nach Größe.
| Unternehmen | Chemikalie | Schritt in Taiwan | Zeitplan |
|---|---|---|---|
| Rasa Industries | Hochreine Phosphorsäure (Nitridätzen) | Zweites Werk bei der Tochter in Taichung | Angekündigt im September 2026, Fertigstellung für das GJ 2028 geplant |
| Tokuyama | Hochreines Isopropanol (IPA) | Zweites Werk mit 30.000 t pro Jahr bei Formosa Tokuyama Advanced Chemicals in Kaohsiung (Joint Venture 50/50 mit Formosa Plastics) | Angekündigt im Mai 2026, Betrieb für September 2028 geplant |
| Mitsubishi Gas Chemical | Ultrareines Wasserstoffperoxid (Reinigung) | Betreibt in Taiwan ein Werk für ultrareines Wasserstoffperoxid | Stand der Präsentation vom Oktober 2024 |
| Sumitomo Chemical | Prozesschemikalien für Halbleiter | Vereinbarte den Kauf aller Anteile an Asia Union Electronic Chemical Corporation (Taipeh) mit Werken in Kaohsiung und Nevada | Angekündigt im November 2025, damals vorbehaltlich behördlicher Genehmigungen |
Auch Nachfragezyklen betreffen den Käufer. Rasas halbleiterbezogener Umsatz umfasst Rohstoffe für Kondensatoren, Flockungsmittel für Ätzanwendungen und hochreine Werkstoffe für Verbindungshalbleiter. Er lag im Geschäftsjahr bis März 2023 bei 24,3 Mrd. ¥, ein Jahr später bei 19,6 Mrd. ¥ und im Geschäftsjahr bis März 2026 bei 24,4 Mrd. ¥ (51,1 % des Gesamtumsatzes).
Fragen Sie, wie die Zuteilung bei knappem Markt funktioniert. Ein so stark von Chips abhängiger Lieferant unterliegt demselben Zyklus wie Sie.
Unserer Einschätzung nach dienen Rasas zwei Schritte unterschiedlichen Zwecken. Taiwan erweitert das Angebot für wachsende Kunden, während das US-Werk der Chipproduktion in eine neue Region folgt. Dieselbe Logik gilt für Käufer, denn die Abhängigkeit von einer Region oder einem Standort bündelt Ihr Risiko.
Was sich ändert, wenn ein japanischer Lieferant im Ausland baut
Die folgenden Punkte sind eine allgemeine redaktionelle Sicht darauf, was zu prüfen ist, keine Feststellungen über Rasa. Wie sie behandelt werden, regelt die Qualitätssicherungsvereinbarung (QSV) Ihrer Fab mit dem Lieferanten.
- Ihre Daten übertragen sich eventuell nicht. Die Marke bleibt gleich, aber Ihre Qualifizierungsergebnisse stammen aus einem anderen Werk. Ob der neue Standort als neue Quelle zählt, entscheidet Ihre Qualitätsabteilung.
- Die technische Entscheidungsbefugnis liegt womöglich woanders. Das lokale Werk gibt vielleicht die Lose frei, während das Mutterwerk (maza kojo) in Japan den Prozess verantwortet. Klären Sie, wer eine Abweichung genehmigen darf und wie schnell.
- Rohstoffwege können sich unterscheiden. Ein Standort startet womöglich mit einer anderen Phosphorquelle oder veredelt ein andernorts hergestelltes Zwischenprodukt. Rasa hat das für seine Werke nicht veröffentlicht.
- Labore können voneinander abweichen. Zwei Labore, die dasselbe Los nahe an der Nachweisgrenze prüfen, können unterschiedliche Ergebnisse melden. Verlangen Sie daher eine Laborkorrelation zwischen den Standorten.
- Dokumente entstehen eventuell zuerst auf Japanisch. Fragen Sie, welche Sprachfassung für die Spezifikation (規格書, kikakusho), das Analysenzertifikat (試験成績書, shiken seisekisho) und Änderungsmitteilungen maßgeblich ist.
- Automatisierung kann als Änderung zählen. Rasa sagt, es wolle im neuen Werk Produktion und Versand automatisieren. Fragen Sie, ob Abfüll- und Versandschritte vom qualifizierten Standort abweichen.
Auch Recycling kann zum Thema werden. Das japanische Ministerium für Wirtschaft, Handel und Industrie (METI) hat im Juli 2023 einen Plan von Rasa zur Etablierung eines Recyclingverfahrens für hochreine Phosphorsäure anerkannt, mit 960 t pro Jahr und Lieferbeginn ab April 2027 geplant. Wenn recycelte Säure angeboten wird, lassen Sie sie getrennt kennzeichnen und vereinbaren Sie mit Ihrer Qualitätsabteilung, wie sie bewertet wird.
Checkliste: Neuen Lieferstandort qualifizieren
Nutzen Sie diese Liste, wenn Sie die Bewertung eines neuen Standorts eröffnen. Sie nennt, was einzuholen ist. Losanzahl, Testwafer und Abnahmekriterien legt der Qualifizierungsplan Ihrer Fab fest.
- Produkt: reine Säure oder formulierte Ätzlösung, Qualitätsbezeichnung, Produktnummer und eventuell beanspruchte SEMI-C36-Qualität
- Standort und Eigentümer: juristische Person, Werksadresse, Muttergesellschaft oder Joint-Venture-Partner und wer die Qualitätsvereinbarung unterzeichnet
- Herstellweg: thermisch oder Nassverfahren, Phosphorquelle, Reinigung, Filtration und Abfüllschritte
- Spezifikation: Gehalt und Toleranz, Metalle je Element, Anionen, Silizium, Partikel je Größe sowie Prüfverfahren und Bestimmungsgrenze für jedes Merkmal
- Vergleichsdaten: Daten aufeinanderfolgender Lose des neuen Standorts neben denen des qualifizierten Standorts und eine Laborkorrelation
- Bewertung im Prozess: Nitrid- und Oxidätzraten über die Badlebensdauer, Verhalten von Siliziumdioxid und Partikelzuwachs auf Ihrem eigenen Schichtstapel
- Verpackung und Logistik: Gebindetyp und -material, Gebindereinigung, Transporttemperatur, Gefrierrisiko, Haltbarkeit und Gefahrgutklassifizierung auf der tatsächlichen Route
- Änderungsmanagement: was eine Mitteilung auslöst, mit welcher Vorlaufzeit Sie informiert werden und ob die Mitteilungen auf Englisch erfolgen
- Versorgungssicherheit: Ausweichstandort, Sicherheitsbestand und Zuteilungsregeln bei Engpässen
- Umwelt, Gesundheit und Sicherheit: Sicherheitsdatenblatt in der Landessprache, REACH-Registrierung, Genehmigungen vor Ort und Umgang mit gebrauchter Säure
Fragen an die japanische Seite
Senden Sie diese Fragen früh, am besten bevor das Werk fertig ist. Schriftliches Nachfragen hilft, denn die Antworten müssen möglicherweise über die Zentrale in Japan laufen.
- Welcher Standort fertigt unser Produkt, und ist das Produkt dieses Standorts bei irgendeiner Fab bereits qualifiziert? (Kundennamen sind nicht nötig.)
- Wird diese Säure im thermischen Verfahren (kanshiki-ho) oder im Nassverfahren (shisshiki-ho) hergestellt? Ist der Weg an allen Standorten derselbe?
- Nutzen alle Standorte dieselbe Phosphorquelle und dieselben Reinigungs- und Filtrationsschritte?
- Können Sie die gelenkte Spezifikation teilen, einschließlich Metallen je Element, Partikeln je Größe und Bestimmungsgrenzen?
- Erfüllt das Produkt eine SEMI-C36-Qualität? Welche Qualität und welche Revision?
- Haben Ihre Standorte eine Laborkorrelation an denselben Losen durchgeführt? Können wir die Ergebnisse sehen?
- Wann stehen Muster aus dem neuen Werk bereit, und wann erwarten Sie nach der Qualifizierung die Serienlieferung?
- Wie läuft Ihr Verfahren zur Änderungsmitteilung bei einer 4M-Änderung (Mensch, Maschine, Material, Methode)?
- Wer verantwortet den Prozess und darf Abweichungen genehmigen: das lokale Werk oder die Zentrale in Japan?
- Welcher Standort entwickelt Reinigungs- und Analyseverfahren, und wo würden Chemien der nächsten Generation gemeinsam mit uns bewertet?
- Wird aufbereitete oder recycelte Säure in unserem Produkt verwendet?
- Wer ist Registrant nach REACH, und in welcher Sprache liegen Sicherheitsdatenblatt und Analysenzertifikat vor?
Muster für eine Anfrage per E-Mail
Passen Sie die Vorlage an Ihre Situation an. Ersetzen Sie die Angaben in Klammern und streichen Sie alles, was Ihre Geheimhaltungsvereinbarung nicht zu teilen erlaubt.
Betreff: Hochreine Phosphorsäure: Bewertung des Standorts [Standortname] für [unser Standort]
Sehr geehrte/r [Name],
wir setzen hochreine Phosphorsäure für das Nassätzen von Siliziumnitrid in unserer Fab in [Ort] ein und möchten die Lieferung aus Ihrem Werk [Standortname] bewerten.
Könnten Sie uns bis [Datum] Folgendes zusenden?
- Qualitätsbezeichnung und gelenkte Spezifikation, einschließlich Gehalt, Metallen je Element, Partikeln je Größe, Prüfverfahren und Bestimmungsgrenzen
- Herstellweg und wesentliche Prozessschritte an diesem Standort sowie Abweichungen vom [derzeit qualifizierten Standort]
- Daten aktueller aufeinanderfolgender Lose sowie Ergebnisse der Laborkorrelation zwischen den Standorten
- Verpackungsoptionen, Temperaturführung beim Transport und die Versandroute zu unserem Standort
- Ihr Verfahren zur Änderungsmitteilung und die Vorlaufzeit
- Voraussichtliche Termine für Muster und für die Serienlieferung nach der Qualifizierung
Unser erwarteter Bedarf liegt bei etwa [Tonnen pro Monat] ab etwa [Datum]. Bei Bedarf unterzeichnen wir gern eine Geheimhaltungsvereinbarung. Bitte teilen Sie uns mit, wer bei Ihnen technische Fragen auf Englisch beantwortet.
Mit freundlichen Grüßen
[Name, Funktion, Unternehmen]
Grenzen dieses Beitrags
- Selektivitätswerte und die Sättigungsangabe für Siliziumdioxid stammen aus Patenten und Konferenzabstracts zu bestimmten Versuchsaufbauten. Sie sind keine Prozessempfehlungen.
- Grenzwerte für Elektronikqualität sind größtenteils unveröffentlicht. Den kostenpflichtigen Text von SEMI C36 haben wir nicht geprüft, und die Metallgrenzen Ihres Produkts müssen vom Lieferanten kommen.
- Heiße Phosphorsäure ist gefährlich. Dieser Beitrag ist keine Arbeitsanweisung. Maßgeblich sind die Gefährdungsbeurteilung nach Gefahrstoffverordnung, die Verfahren Ihres Standorts und das Sicherheitsdatenblatt des Lieferanten.
- Ob ein neuer Standort eine vollständige oder teilweise Requalifizierung erfordert, hängt von Ihrer Fab, Ihrem Technologieknoten und Ihrer Qualitätsvereinbarung ab.
- Die Angaben zu den Unternehmen stammen aus Veröffentlichungen mit Stand November 2026. Die Dollar-Umrechnungen sind grobe Orientierungswerte, keine berichteten Zahlen.
- Die Hinweise zu REACH, Gefahrgut und Sicherheitsdatenblatt in der Landessprache sind allgemeine Orientierung und wurden für diesen Beitrag nicht einzeln gegen die aktuellen Rechtstexte geprüft.
FAQ
Wofür wird heiße Phosphorsäure in der Halbleiterfertigung verwendet?
Sie entfernt Siliziumnitridschichten selektiv und ätzt Siliziumoxid deutlich langsamer. Typische Badtemperaturen liegen bei etwa 160 °C. Anwendungen sind das Entfernen von Nitridmasken in Logik- und Speicherbauelementen und das Entfernen von Nitridlagen in 3D-NAND-Stapeln, wobei bei höheren Stapeln formulierte Chemien nötig sein können.
Worin unterscheiden sich Phosphorsäure in Elektronik- und in Industriequalität?
Beide können einen ähnlichen Gehalt haben, etwa 85 %, der Unterschied liegt also in der Kontrolle der Verunreinigungen. Rasas veröffentlichte Industriequalität begrenzt Eisen auf höchstens 5 ppm, während Elektronikqualitäten niedrigere Grenzen je Element setzen und zusätzlich Partikel je Größe kontrollieren. Rins Qualität EL-S erlaubt zum Beispiel höchstens 200/ml bei 0,2 µm und größer.
Wer stellt Phosphorsäure in Halbleiterqualität her?
Öffentliche Quellen nennen unter anderem Rasa Industries (Japan, Taiwan und der koreanische Partner SoulbrainRASA), Rin Kagaku Kogyo (Japan), OCI (Südkorea) und Soulbrain RASA TX (geplantes Werk in Texas). Die Liste ist nicht vollständig. Qualitäten und Standorte sollten Sie bei jedem Lieferanten direkt bestätigen.
Wann beginnt Rasas zweites Werk in Taiwan mit der Lieferung?
Rasa hat das nicht mitgeteilt. Die Fertigstellung ist für das Geschäftsjahr 2028 geplant, Kapazität und der Beginn der Lieferung nach Kundenqualifizierung sind nicht veröffentlicht. Halbleitermaterialien brauchen Zeit für die Qualifizierung. Rechnen Sie also mit einer Lücke zwischen Fertigstellung und qualifizierter Lieferung und fragen Sie den Lieferanten nach dem aktuellen Zeitplan.
Lässt sich gebrauchte hochreine Phosphorsäure recyceln?
Rasa arbeitet daran. Das METI hat den Plan im Juli 2023 nach Japans Gesetz zur Förderung der wirtschaftlichen Sicherheit anerkannt, mit 960 t pro Jahr und Lieferbeginn ab April 2027. In seinem mittelfristigen Plan nennt Rasa die praktische Nutzung des Recyclings.
Lassen Sie recyceltes Material kennzeichnen, denn es braucht eine eigene Bewertung.
Quellen
- Neues Werk, Gründe, RTT-Umsatz, Wechselkurs zum Yen: Rasa Industries, Mitteilung zum neuen Werk der konsolidierten Tochter, 30. September 2026 (Japanisch)
- Umsatz, Versorgungskarte, Erweiterung in Taiwan, halbleiterbezogener Umsatz: Rasa Industries, Ergebnispräsentation für das Geschäftsjahr bis März 2026 (Japanisch)
- SoulbrainRASA Co., Ltd., Stimmrechte: Rasa Industries, Wertpapierbericht, eingereicht im Juni 2026 (Japanisch)
- Herstellweg und Industriespezifikation: Rasa Industries, Produktseite Phosphorsäure (Japanisch)
- Qualitäten EL und EL-S, Partikelgrenzen, Gebinde: Rin Kagaku Kogyo, hochreine Phosphorsäure (Japanisch)
- Anwendungsbereich und aktuelle Revision: SEMI, „SEMI C36 - Specification for Phosphoric Acid“ (Englisch)
- Messung von Spurenmetallen: Agilent-Applikationsschrift, „Determination of Trace Metal Impurities in Semiconductor Grade Phosphoric Acid by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS“ (Englisch)
- Einzelwafer-Ätzen, Temperatur, Siliziumregelung: Shibaura Mechatronics, Serie SC300-HT (Japanisch)
- Übersicht über den Front-End-Prozess: SCREEN Semiconductor Solutions, Halbleiterfertigungsprozess (Japanisch)
- Nitridentfernung bei 3D-NAND: Entegris, „Considerations for Improving 3D NAND Performance, Reliability, and Yield“ (2018, Englisch)
- Selektivität über 100:1, Verhalten von Siliziumdioxid, Temperatur und Ungleichmäßigkeit: Bassett, Printz und Furukawa (Tokyo Electron), Abstract, 228. ECS Meeting, 2015 (Englisch)
- Selektivität 30:1 bei 165 °C: Garnier et al. (STMicroelectronics), Abstract, 228. ECS Meeting, 2015 (Englisch)
- Selektivität im frischen und gebrauchten Bad, Wasserersatz: US-Patent 6,699,400
- Siliziumregelung, Sättigung von Siliziumdioxid, Partikel: US-Patent 8,834,671
- Zugabe frischer Säure zur Wiederherstellung des Siliziumgehalts: US-Patent 8,409,997
- Siliziumgehalt und Oxidätzrate, kolloidales Siliziumdioxid: US-Patent 10,325,779
- Thermisches Verfahren und Nassverfahren: The Essential Chemical Industry, „Phosphoric acid“ (Englisch); Wikipedia, „Phosphoric acid“ (Englisch)
- Gefahrgutklassifizierung und Gefrierpunkt: Sicherheitsdatenblatt für Phosphorsäurelösung, University of Illinois (Englisch); Datenblatt von Glentham (Englisch)
- Texas-Projekt: Büro des Gouverneurs von Texas, 4. Juni 2026 (Englisch); Area Development, 11. Juni 2026 (Englisch)
- Lieferung und Kapazität von OCI: KED Global, „OCI supplies ultrapure phosphoric acid to SK Hynix“, 2. September 2024 (Englisch)
- Versorgung am Verbrauchsort, Weltmarktanteil, IRDS-Beispiel: Mitsubishi Gas Chemical, Präsentation zum Geschäft mit Elektronikchemikalien, 2. Oktober 2024 (Japanisch)
- IPA-Werk: Tokuyama, Pressemitteilung, 20. Mai 2026 (Japanisch)
- Übernahme von AUECC: Sumitomo Chemical, Pressemitteilung, 20. November 2025 (Japanisch)
- Recyclingplan: METI, Zusammenfassung des anerkannten Versorgungssicherungsplans Nr. 16-1 (Japanisch)
- US-Dollar-Kurs: ValutaFX, USD zu TWD am 30. September 2026 (Englisch)
Originalartikel auf JapanischDieser Leitfaden beruht auf einem MONOSCOPE-Artikel für Leser in Japan: 半導体用高純度リン酸とは｜ラサ工業が台湾に188億円の新工場を建てる理由
Über die Redaktion
MONOSCOPE-RedaktionFOUNDER & EDITORRund zehn Jahre bei einem Anlagenhersteller und einem Anlagenbauunternehmen in Angebot, Konstruktion und Inbetriebnahme von Anlagen tätig, danach Wechsel ins Online-Marketing. Berät heute B2B-Hersteller zu ihren Websites und hilft ihnen, Produkte und Technik verständlich zu erklären. Besitzt die japanischen staatlichen Lizenzen als Energy Manager und als Elektro-Chefingenieur der dritten Klasse.
Betreibt seit 2017 einen Technik-Blog (über 500 Artikel) und einen japanischsprachigen YouTube-Kanal mit rund 20.000 Abonnenten. Jeder Leitfaden entsteht aus der Perspektive der japanischen Werkshalle und wird mit den zitierten Normen abgeglichen.
