Acide phosphorique qualité semi-conducteur : Rasa à Taïwan
Un fournisseur vous annonce que les prochains lots d'acide phosphorique pourront être expédiés depuis une nouvelle usine à Taïwan, en Corée ou aux États-Unis. Le nom du produit et la pureté affichée ne changent pas. Ce qu'il vous faut savoir, c'est si l'acide se comportera de la même façon dans votre bain chaud, et quel travail de qualification cette réponse va exiger.
L'acide phosphorique qualité semi-conducteur est la solution de gravure qui retire le nitrure de silicium (Si3N4) en laissant presque intact l'oxyde de silicium (SiO2). Le 30 septembre 2026, le groupe japonais Rasa Industries, qui revendique la première part de marché mondiale sur ce produit, a annoncé une seconde usine à Taichung (Taïwan), pour environ 3,8 milliards de NT$ (environ 18,8 milliards de yens, soit environ 119 millions de dollars US).
Ce guide présente la chimie de la gravure, la différence entre qualité électronique et qualité industrielle, et les sites de production de Rasa et d'autres fournisseurs. Il examine ensuite ce qu'un acheteur doit vérifier avant d'approuver un nouveau site. Une liste de contrôle, une liste de questions pour l'interlocuteur japonais et un modèle de courriel figurent vers la fin.
Sommaire
- Ce que fait l'acide phosphorique chaud dans une usine de semi-conducteurs
- Qualité industrielle et qualité électronique : la teneur n'est pas la pureté
- Ce que Rasa a annoncé
- Où l'acide est produit : Japon, Taïwan, Corée et États-Unis
- Pourquoi les fournisseurs de produits chimiques s'installent près des fabs
- Ce qui change quand un fournisseur japonais ouvre une usine à l'étranger
- Repères pour un acheteur en France ou en Afrique du Nord
- Liste de contrôle : qualifier un nouveau site d'approvisionnement
- Questions à poser au côté japonais
- Limites de ce guide
- FAQ
- Sources
Ce que fait l'acide phosphorique chaud dans une usine de semi-conducteurs
Dans les étapes amont (front-end), le traitement des plaquettes (wafers) répète la même boucle un grand nombre de fois : dépôt d'un film, structuration, gravure, nettoyage. L'acide phosphorique de haute pureté relève de la gravure humide, où un liquide dissout un film. Rasa présente son produit comme une solution chimique de gravure humide en étapes amont, pour les composants logiques et mémoire (NAND et DRAM).
Le nitrure de silicium est dur et résiste aux produits chimiques. Les flux de fabrication l'utilisent donc comme masque pour protéger les couches inférieures, ainsi que comme film isolant ou de protection. Quand le nitrure a joué son rôle, on le retire typiquement en plongeant la plaquette dans de l'acide chauffé à environ 160 °C. La figure 1 en montre le résultat.
L'objectif est de retirer uniquement le nitrure de silicium et de conserver presque tout l'oxyde situé en dessous.
Schéma très simplifié. L'épaisseur et la forme des films varient selon le procédé, et une petite quantité d'oxyde est également gravée.
Gravure sèche et gravure humide sont deux étapes distinctes de cette boucle. La figure 2 situe l'étape à l'acide phosphorique, ce qui aide pour échanger avec les achats ou la logistique, qui ne travaillent pas en salle blanche.
Dépôt de film, structuration, gravure et nettoyage se répètent des dizaines de fois. L'acide phosphorique intervient dans une partie de la gravure.
L'ordre et le nombre des étapes varient selon le composant. Schéma simplifié par la rédaction à partir de la présentation des procédés de SCREEN.
Sélectivité : vitesse de gravure du nitrure et de l'oxyde
La sélectivité (senta-hi en japonais) est le rapport entre la vitesse de gravure du nitrure et celle de l'oxyde. À 50:1, par exemple, le bain retire 50 nm de nitrure pour 1 nm d'oxyde. Les valeurs publiées varient beaucoup, car elles dépendent du film, de la température et de l'état du bain.
Les exemples ci-dessous proviennent de montages précis. Servez-vous-en comme repères, pas comme objectifs ni comme spécifications.
- Environ 24:1, puis 50:1 ou plus : bain neuf comparé au même bain après environ 1 000 plaquettes nitrurées, dans un brevet américain décrivant un procédé à environ 165 °C
- 30:1 : acide à 85 % et 165 °C, pour le retrait d'espaceurs dans une technologie 28 nm (STMicroelectronics, 2015)
- Plus de 100:1 : bain chaud correctement réglé pour la NAND 3D (Tokyo Electron, 2015)
L'écart entre un bain neuf et un bain usagé est le point à retenir. L'acide que vous achetez fixe la condition de départ. L'équipement et la maîtrise de votre bain décident de la suite.
Concentration en silicium : une fenêtre étroite
Le silicium dissous ralentit la gravure de l'oxyde : plus le bain en contient, plus la vitesse de gravure de l'oxyde baisse. La gravure du nitrure apporte des sous-produits siliciés dans l'acide, et les bains sont aussi généralement pré-ensemencés en silice. C'est pourquoi un bain usagé peut être plus sélectif qu'un bain neuf.
Ce même silicium crée le principal risque. Au-delà d'un seuil critique, il précipite sous forme de silice. Un brevet américain situe la saturation à environ 120 ppm à 165 °C et décrit la silice précipitée comme une source majeure de particules, néfaste pour le rendement.
La figure 3 illustre ce compromis.
Le silicium améliore la sélectivité jusqu'à ce qu'il commence à se déposer. Le bain doit rester entre les deux limites.
Aucune valeur n'est indiquée, car la fenêtre dépend de l'équipement, de la température, du film et de la chimie. C'est le responsable du procédé qui la fixe.
Les fabricants d'équipements conçoivent leurs machines autour de cette fenêtre. Shibaura Mechatronics indique que son équipement monoplaquette SC300-HT maintient l'acide à 160 °C ou plus et contrôle la concentration en silicium pour obtenir une sélectivité élevée. Des brevets décrivent aussi l'ajout d'acide chaud neuf pour rétablir le niveau de silicium, et l'ajout d'eau désionisée pour compenser l'évaporation.
C'est pourquoi un certificat d'analyse impeccable ne règle pas la question. L'acide doit aussi se comporter de façon stable une fois chauffé et réutilisé dans votre équipement : une nouvelle source se qualifie donc dans le procédé réel.
NAND 3D : retirer le nitrure par le côté
Un empilement de NAND 3D alterne des couches d'oxyde et de nitrure, et le nitrure est ensuite retiré latéralement. La gravure doit l'éliminer de façon homogène en haut et en bas de l'empilement et sur toute la plaquette, sans attaquer l'oxyde. Dans un livre blanc de 2018, Entegris décrit cette étape comme un défi de gravure humide dès que les facteurs de forme atteignent environ 50:1.
Selon ce document, l'acide phosphorique chaud à environ 160 °C a été utilisé en dessous de 96 couches, tandis qu'à partir de 96 couches il faut une chimie spécialement formulée pour préserver la marge de procédé. Entegris vend des chimies formulées : lisez donc cela comme le point de vue d'un fournisseur et vérifiez ce que votre propre nœud technologique utilise.
La silice reste aussi un sujet ici, car des brevets décrivent de la silice colloïdale qui croît sur l'oxyde exposé et gêne le retrait du nitrure. Des chercheurs de Tokyo Electron attribuent les non-uniformités au sein d'une plaquette et d'une plaquette à l'autre principalement aux écarts de température dans le bain.
Il faut donc d'abord décider si vous achetez un simple acide de qualité électronique ou une solution de gravure formulée. Les questions à poser ne sont pas les mêmes.
Qualité industrielle et qualité électronique : la teneur n'est pas la pureté
La teneur (ganryo, 含量) indique la quantité de H3PO4 présente dans le liquide. Même l'acide industriel se vend couramment à environ 85 %, donc une teneur élevée ne dit rien de l'aptitude à l'usage en salle blanche. Pour les semi-conducteurs, les questions plus exigeantes portent sur la faible quantité de métaux (fer, sodium, etc.) et sur le faible nombre de particules.
La figure 4 compare les deux qualités à partir d'exemples publiés par deux fabricants japonais.
Dans les deux cas il s'agit de H3PO4, mais l'acheteur contrôle des points différents, avec un niveau de maîtrise très différent.
Les valeurs sont des exemples publiés pour des produits précis, de Rasa (qualité industrielle) et de Rin Kagaku Kogyo (EL-S), et non des limites valables pour toute la profession.
Du ppm au ppt
Les chiffres publiés pour la qualité électronique sont peu nombreux. Rin Kagaku Kogyo indique des limites de particules pour sa qualité supérieure EL-S (200 par mL à 0,2 µm, 70 par mL à 0,3 µm et 20 par mL à 0,5 µm) et renvoie pour le reste à son service commercial. Ce qui fait foi, c'est la spécification de votre usine et la spécification maîtrisée du fournisseur.
SEMI C36 (révision en vigueur : C36-1121) est la spécification SEMI des qualités d'acide phosphorique utilisées en fabrication de semi-conducteurs, et ses méthodes d'essai doivent satisfaire aux exigences de validation de SEMI C1. Ce document est payant, nous n'en reproduisons donc pas les limites. Demandez à quelle qualité et à quelle révision le produit d'un fournisseur correspond, le cas échéant.
Pour donner une idée de l'orientation, regardons un autre produit. Mitsubishi Gas Chemical cite la feuille de route internationale IRDS (International Roadmap for Devices and Systems) de 2022 pour le peroxyde d'hydrogène à 30 % livré par le fournisseur.
Cette feuille de route durcit la limite de chaque métal de 10 ppt (parties par billion, soit 10-12) en 2021 à 5 ppt à partir de 2024, et celle des particules de 20 nm de 500 par mL à 200 par mL d'ici 2027. Ce ne sont pas des limites pour l'acide phosphorique.
La mesure fait partie de la spécification. Les métaux traces dans un acide qualité semi-conducteur à 85 % peuvent être mesurés par spectrométrie de masse à plasma induit (ICP-MS), et une note d'application d'Agilent annonce des limites de détection de l'ordre du ppt, mesurées sur l'acide dilué environ 100 fois. Un résultat « inférieur à X » ne signifie pas grand-chose tant que vous ne connaissez pas la limite de rapport de chaque laboratoire.
Procédé thermique et voie humide
Les documents japonais parlent de kanshiki-ho (乾式法, « procédé sec ») pour ce que les sources françaises et anglaises appellent le procédé thermique. On brûle du phosphore jaune pour obtenir du pentoxyde de phosphore, qui réagit ensuite avec l'eau. La voie humide (shisshiki-ho, 湿式法) consiste à attaquer le phosphate naturel avec de l'acide sulfurique ou un autre acide.
Rasa indique utiliser la voie passant par le phosphore jaune, et Rin déclare fabriquer ses qualités électroniques par un procédé sec à faible teneur en impuretés. L'acide de voie humide part d'impuretés plus nombreuses venant de la roche, mais il peut être purifié davantage : la voie seule ne qualifie ni ne disqualifie donc un produit. Consignez-la tout de même, car vous voudrez savoir si elle change un jour.
Ce que Rasa a annoncé
Rasa Industries, fondée en 1913, fabrique des produits chimiques à base de phosphore, des matériaux de haute pureté pour semi-conducteurs composés, ainsi que des machines de concassage et de creusement de tunnels. Son chiffre d'affaires était de 47,7 milliards de yens (environ 303 millions de dollars US) pour l'exercice clos en mars 2026, dont 16,8 milliards pour l'acide phosphorique de haute pureté, soit 35,2 %. La première place mondiale est une affirmation de Rasa, que nous n'avons pas vérifiée de façon indépendante.
La figure 5 résume l'annonce. Tous les montants en dollars US de cet article sont nos propres conversions approximatives, aux taux indiqués dans la note de la figure.
L'extension de l'usine existante a démarré en avril 2026. La nouvelle usine est l'étape suivante.
Sources : communiqué de Rasa du 30 septembre 2026 et présentation des résultats de l'exercice clos en mars 2026. Les montants en yens utilisent le taux de Rasa : 1 NT$ = 4,94 ¥ (30 septembre 2026). Les montants en dollars sont nos conversions à 31,89 NT$ = 1 $ US, taux moyen de marché à la même date, ce qui implique environ 157,5 ¥ = 1 $ US.
Le maître d'ouvrage est Rasa Technology Taiwan Ltd. (RTT, 理盛精密科技), filiale à 100 % créée en décembre 2003 dans le district de Wuqi, à Taichung.
La seconde usine sera construite dans le même parc que la première, le Taichung Port Technology Industrial Park (臺中港科技產業園區). Rasa la financera par ses fonds propres et par emprunt.
Rasa avance trois raisons pour cet investissement :
- Taïwan est l'un des premiers sites mondiaux de production de semi-conducteurs, centré sur le logique avancé.
- L'IA générative et les centres de données devraient continuer à tirer la demande de semi-conducteurs.
- La demande d'acide phosphorique de haute pureté supplémentaire se renforce à Taïwan.
Les ventes de RTT sont passées de 1 232 millions de NT$ en 2020 à 2 592 millions de NT$ en 2025. Ce chiffre inclut l'effet des prix et du mix produit : ne le lisez pas comme une croissance en volume. Rasa s'attend par ailleurs à un effet mineur sur ses résultats de l'exercice clos en mars 2027 : l'usine n'est donc pas un événement d'approvisionnement à court terme.
Le communiqué ne donne ni la capacité, ni les clients, ni la date des premières livraisons qualifiées. « Exercice 2028 » n'est pas non plus rattaché à un mois. L'exercice de Rasa se termine en mars et celui de RTT en décembre : demandez donc quel calendrier s'applique.
Où l'acide est produit : Japon, Taïwan, Corée et États-Unis
Rasa indique que sa force tient, en plus de la qualité, à la production locale et à la vente locale. La figure 6 montre sa carte d'approvisionnement telle que présentée aux investisseurs en juin 2026.
Les usines se trouvent dans des régions où les fabs sont concentrées et servent principalement les clients de cette région.
Source : présentation des résultats de Rasa pour l'exercice clos en mars 2026. La présentation montre aussi comme marché les fabricants chinois, coréens et taïwanais produisant en Chine, mais son plan de production dans quatre pays ne comprend pas d'usine en Chine.
Le rapport annuel de Rasa (yuka shoken hokokusho) désigne la société coréenne affiliée sous le nom de SoulbrainRASA Co., Ltd., à Gongju (province de Chungcheong du Sud), dont Rasa détient 39,0 % des droits de vote. Rasa ne la consolide pas : ne supposez donc pas qu'elle fonctionne selon le système qualité de Rasa, ni que Rasa puisse répondre des données de son site.
La présentation de Rasa ne nomme pas le site américain. En juin 2026, le bureau du gouverneur du Texas a annoncé une subvention de l'État de 11,6 millions de dollars à Soulbrain RASA TX LLC pour sa première installation de production aux États-Unis, à Taylor (Texas). Le projet dépasse 120 millions de dollars US, avec une première phase visant 28 800 tonnes métriques par an d'acide phosphorique de haute pureté et « haute sélectivité ».
Le nom et le produit correspondent à la description de Rasa, mais aucun des deux documents ne relie explicitement les deux, et un article spécialisé présente la société texane comme une filiale de Soulbrain Holdings. Considérez ce lien comme non confirmé. Si vous évaluez cette source, demandez qui possède l'usine et quelle spécification s'applique.
Rasa n'est pas la seule option. Le tableau suivant liste d'autres fournisseurs que nous avons pu confirmer à partir de sources publiques ; il ne constitue pas une liste complète du marché.
| Fournisseur | Base | Ce que nous avons pu confirmer |
|---|---|---|
| Rin Kagaku Kogyo | Japon | Qualité EL (gravure de matériaux électroniques) et qualité EL-S (gravure de plaquettes de semi-conducteurs), fabriquées par un procédé sec. L'EL-S est conditionné en bidons de 25 ou 30 kg, en fûts de 300 kg et en camions-citernes de 10 tonnes |
| OCI | Corée du Sud | Capacité annuelle de 25 000 tonnes. A déclaré en septembre 2024 être la première entreprise coréenne à fournir de l'acide phosphorique de haute pureté à tous les fabricants coréens, dont Samsung Electronics, SK Hynix, SK Keyfoundry et DB HiTek (affirmation d'OCI, rapportée par KED Global) |
| Soulbrain RASA TX | États-Unis (Taylor, Texas) | Objectif de 28 800 tonnes métriques par an en phase 1, selon le bureau du gouverneur du Texas (juin 2026). Pas de date d'ouverture dans cette annonce |
Pourquoi les fournisseurs de produits chimiques s'installent près des fabs
Le communiqué de Rasa invoque la demande, mais dit peu de l'importance de l'implantation. Mitsubishi Gas Chemical, qui revendique environ 50 % du marché mondial du peroxyde d'hydrogène ultra-pur, est plus direct. Le groupe présente la production près du lieu de consommation comme un moyen de répondre vite aux clients et de limiter les coûts logistiques, et il affirme que la proximité accélère aussi les retours des clients pour les nouveaux produits.
L'acide phosphorique pose ses propres questions logistiques. Les qualités industrielles publiées par Rasa indiquent une densité de 1,58 ou plus, jusqu'à 1,73 ou plus : l'acide concentré est donc lourd à transporter. Les fiches de données de sécurité que nous avons consultées classent l'acide à 85 % sous UN 1805, classe 8, groupe d'emballage III, et la plupart indiquent un point de congélation ou de fusion proche de 21 °C ; demandez donc au fournisseur comment il protège le produit pendant le transport et en stockage au froid.
Une usine locale aide l'acheteur, mais pas automatiquement. La figure 7 met en regard les gains probables et ce qui reste à démontrer.
Utilisez la colonne de gauche pour construire l'argumentaire économique et celle de droite pour planifier la qualification.
- Distance de transport plus courte, avec un coût logistique plus bas et moins de risques en transit
- Un approvisionnement qui peut suivre votre montée en cadence ou une nouvelle ligne
- Une coordination plus étroite sur les niveaux de stock et les calendriers de livraison
- Des retours plus rapides entre les résultats de votre procédé et le fournisseur
- Une solution de repli en cas de catastrophe ou de perturbation logistique, si plus d'un site est qualifié
- Le produit du nouveau site réussit votre évaluation et votre qualification
- Les matières premières et l'analyse de haute pureté sont en place localement
- Le site dispose de personnel formé et du temps nécessaire pour atteindre la qualité du site d'origine
- La demande régionale justifie l'usine sur le long terme
- Le fournisseur peut porter l'usine et sa dette pendant un ralentissement
Points généraux organisés par la rédaction. Ce ne sont pas des éléments que Rasa a cités pour sa décision.
L'achèvement de l'usine n'est pas la même chose qu'un approvisionnement qualifié. Après la construction, le fournisseur doit encore fournir des échantillons, réussir l'évaluation dans le procédé du client et obtenir l'adoption formelle. Intégrez cet intervalle dans votre plan d'achats, car la date communiquée ne couvre que l'achèvement.
D'autres fournisseurs japonais de produits chimiques de procédé construisent ou rachètent aussi des capacités à Taïwan. Les produits et usages diffèrent : ne comparez donc pas ces projets par leur taille.
| Entreprise | Produit chimique | Mouvement à Taïwan | Calendrier |
|---|---|---|---|
| Rasa Industries | Acide phosphorique de haute pureté (gravure du nitrure) | Seconde usine dans sa filiale de Taichung | Annoncée en septembre 2026, achèvement prévu à l'exercice 2028 |
| Tokuyama | Alcool isopropylique (IPA) de haute pureté | Seconde usine de 30 000 tonnes par an chez Formosa Tokuyama Advanced Chemicals à Kaohsiung (coentreprise à 50/50 avec Formosa Plastics) | Annoncée en mai 2026, exploitation prévue en septembre 2028 |
| Mitsubishi Gas Chemical | Peroxyde d'hydrogène ultra-pur (nettoyage) | Exploite à Taïwan une usine de peroxyde d'hydrogène ultra-pur | À la date de sa présentation d'octobre 2024 |
| Sumitomo Chemical | Produits chimiques de procédé pour semi-conducteurs | A convenu d'acquérir toutes les actions d'Asia Union Electronic Chemical Corporation (Taipei), qui exploite des usines à Kaohsiung et au Nevada | Annoncé en novembre 2025, sous réserve des autorisations à cette date |
Les cycles de la demande comptent aussi pour un acheteur. Les ventes « liées aux semi-conducteurs » de Rasa comprennent des matières premières pour condensateurs, des floculants pour la gravure et des matériaux de haute pureté pour semi-conducteurs composés. Elles sont passées de 24,3 milliards de yens à l'exercice clos en mars 2023 à 19,6 milliards un an plus tard, puis à 24,4 milliards à l'exercice clos en mars 2026 (51,1 % du chiffre d'affaires).
Demandez comment l'allocation fonctionne quand le marché se tend : un fournisseur aussi exposé aux puces subit le même cycle que vous.
À notre lecture, les deux mouvements de Rasa répondent à des objectifs différents. Taïwan ajoute de l'offre pour des clients en croissance, tandis que l'usine américaine suit la production de puces vers une nouvelle région. La même logique vaut pour les acheteurs : dépendre d'une seule région ou d'un seul site concentre votre risque.
Ce qui change quand un fournisseur japonais ouvre une usine à l'étranger
Les points ci-dessous constituent un point de vue éditorial général sur ce qu'il faut examiner, et non des constats sur Rasa. C'est l'accord qualité fournisseur de chaque fab qui décide de leur traitement.
- Vos données ne sont peut-être pas transférables. La marque reste la même, mais vos résultats de qualification venaient d'une autre usine. C'est à votre équipe qualité de décider si le nouveau site compte comme une nouvelle source.
- L'autorité technique peut se trouver ailleurs. L'usine locale peut libérer les lots alors que l'usine mère (maza kojo) au Japon pilote le procédé. Cherchez à savoir qui peut approuver un écart, et en combien de temps.
- Les chemins d'approvisionnement en matières premières peuvent différer. Un site peut partir d'une autre source de phosphore, ou terminer un intermédiaire fabriqué ailleurs. Rasa ne l'a pas publié pour ses usines.
- Les laboratoires peuvent diverger. Deux laboratoires qui analysent le même lot près de leurs limites de détection peuvent rendre des résultats différents : demandez une corrélation inter-laboratoires entre les sites.
- Les documents peuvent d'abord exister en japonais. Demandez quelle version linguistique fait foi pour la spécification (kikakusho, 規格書), le certificat d'analyse (shiken seisekisho, 試験成績書) et les avis de modification.
- L'automatisation peut constituer une modification. Rasa indique qu'elle travaillera à l'automatisation de la production et de l'expédition dans sa nouvelle usine. Demandez si les étapes de remplissage et d'expédition diffèrent de celles du site que vous avez qualifié.
Le recyclage peut aussi entrer dans la discussion. Le ministère japonais de l'Économie, du Commerce et de l'Industrie (METI) a certifié en juillet 2023 un plan de Rasa visant à établir une technologie de recyclage de l'acide phosphorique de haute pureté, à hauteur de 960 tonnes par an, avec des livraisons prévues à partir d'avril 2027. Si un acide recyclé vous est proposé, demandez qu'il soit identifié séparément et convenez avec votre équipe qualité de la manière de l'évaluer.
Repères pour un acheteur en France ou en Afrique du Nord
Nous n'avons trouvé aucune norme NF EN qui définisse l'acide phosphorique de qualité semi-conducteur : le référentiel international le plus cité reste SEMI C36, et c'est la spécification de votre fab qui tranche. Les normes EN existantes sur l'acide phosphorique concernent d'autres usages, comme le traitement de l'eau. Ne les prenez donc pas pour des équivalents.
Pour le transport, l'acide phosphorique en solution porte le numéro UN 1805, classe 8. Pour la route en Europe, l'accord ADR s'applique ; vérifiez avec votre service HSE les exigences propres à votre itinéraire et à votre pays. Demandez aussi une fiche de données de sécurité (FDS) en français, établie pour le site de production concerné.
Dans la pratique, les délais comptent : un lot de qualité électronique venant d'Asie passe par plusieurs semaines de transport maritime, avec un risque de gel de l'acide en hiver. Ces points sont généraux et ne proviennent pas d'une source propre à Rasa.
Liste de contrôle : qualifier un nouveau site d'approvisionnement
Utilisez cette liste à l'ouverture d'une évaluation de nouveau site. Elle couvre ce qu'il faut collecter ; le plan de qualification de votre fab fixe le nombre de lots, les plaquettes d'essai et les critères d'acceptation.
- Produit : acide simple ou solution de gravure formulée, nom de la qualité, code produit et éventuelle qualité SEMI C36 revendiquée
- Site et propriété : entité juridique, adresse de l'usine, société mère ou partenaires de la coentreprise, et signataire de l'accord qualité
- Voie de fabrication : procédé thermique ou voie humide, source de phosphore, étapes de purification, de filtration et de remplissage
- Spécification : teneur et tolérance, métaux élément par élément, anions, silicium, particules par taille, ainsi que la méthode d'essai et la limite de rapport de chacun
- Données de comparaison : données de lots consécutifs du nouveau site à côté de celles du site qualifié, et corrélation inter-laboratoires
- Évaluation en procédé : vitesses de gravure du nitrure et de l'oxyde sur la durée de vie du bain, comportement de la silice et particules ajoutées sur votre propre empilement de films
- Emballage et logistique : type et matériau du conteneur, nettoyage du conteneur, température en transit, risque de gel, durée de conservation et classification de danger sur l'itinéraire réel
- Maîtrise des modifications : ce qui déclenche un avis, quel préavis vous avez, et si les avis sont rédigés en anglais
- Continuité : site de secours, stock de sécurité et règles d'allocation en cas de pénurie
- Environnement, santé et sécurité : fiche de données de sécurité locale, autorisations locales et traitement de l'acide usagé
Questions à poser au côté japonais
Envoyez-les tôt, idéalement avant l'achèvement de l'usine. Poser les questions par écrit aide, car les réponses devront peut-être passer par le siège au Japon.
- Quel site fabriquera notre produit, et le produit de ce site est-il déjà qualifié dans une fab ? (Les noms des clients ne sont pas nécessaires.)
- Cet acide est-il fabriqué par le procédé thermique (kanshiki-ho) ou par la voie humide (shisshiki-ho) ? La voie est-elle la même sur tous les sites ?
- Tous les sites utilisent-ils la même source de phosphore et les mêmes étapes de purification et de filtration ?
- Pouvez-vous nous communiquer la spécification maîtrisée, avec les métaux élément par élément, les particules par taille et les limites de rapport ?
- Le produit répond-il à une qualité SEMI C36 ? Laquelle, et à quelle révision ?
- Vos sites ont-ils mené une corrélation inter-laboratoires sur les mêmes lots ? Pouvons-nous voir les résultats ?
- Quand des échantillons de la nouvelle usine seront-ils disponibles, et quand prévoyez-vous des livraisons en volume après qualification ?
- Quelle est votre procédure d'avis de modification pour un changement des 4M (main-d'œuvre, machine, matière, méthode) ?
- Qui pilote le procédé et peut approuver les écarts : l'usine locale ou le siège japonais ?
- Quel site développe les méthodes de purification et d'analyse, et où les chimies de la génération suivante seraient-elles évaluées avec nous ?
- De l'acide récupéré ou recyclé entrera-t-il dans notre produit ?
Modèle de courriel de demande
Adaptez ce modèle à votre situation. Remplacez les éléments entre crochets et retirez tout ce que votre accord de confidentialité ne vous permet pas de partager.
Objet : Acide phosphorique de haute pureté : évaluation du site [nom du site] pour [notre site]
Madame, Monsieur [Nom],
Nous utilisons de l'acide phosphorique de haute pureté pour la gravure humide du nitrure de silicium dans notre fab de [lieu], et nous souhaiterions évaluer un approvisionnement depuis votre usine de [nom du site].
Pourriez-vous nous transmettre les éléments suivants avant le [date] ?
- Nom de la qualité et spécification maîtrisée, avec la teneur, les métaux élément par élément, les particules par taille, les méthodes d'essai et les limites de rapport
- Voie de fabrication et principales étapes du procédé sur ce site, ainsi que les différences avec [site actuellement qualifié]
- Données de plusieurs lots consécutifs récents, et résultats de la corrélation inter-laboratoires entre les sites
- Options d'emballage, maîtrise de la température en transit et itinéraire d'expédition vers notre site
- Votre procédure d'avis de modification et le délai de préavis
- Dates prévues pour les échantillons et pour les livraisons en volume après qualification
Notre volume prévisionnel est d'environ [tonnes par mois] à partir de [date]. Nous pouvons signer un accord de confidentialité si nécessaire. Merci de nous indiquer quelle personne chez vous traite les questions techniques en anglais.
Cordialement,
[Nom, fonction, entreprise]
Limites de ce guide
- Les valeurs de sélectivité et le chiffre de saturation en silice proviennent de brevets et de résumés de congrès pour des montages précis. Ce ne sont pas des recommandations de procédé.
- Les limites de la qualité électronique sont en grande partie non publiées. Nous n'avons pas consulté le texte payant de SEMI C36, et les limites de métaux de votre produit doivent venir du fournisseur.
- L'acide phosphorique chaud est dangereux. Cet article n'est pas une instruction de travail : suivez les procédures de votre site et la fiche de données de sécurité du fournisseur.
- Le fait qu'un nouveau site exige une requalification complète ou partielle dépend de votre fab, de votre nœud technologique et de votre accord qualité.
- Les faits sur les entreprises proviennent de communiqués disponibles en novembre 2026. Les conversions en dollars sont des repères approximatifs, pas des chiffres publiés.
- Les repères pour la France et l'Afrique du Nord (normes, transport) sont d'ordre général et à confirmer avec votre service HSE et votre fournisseur.
FAQ
À quoi sert l'acide phosphorique chaud dans la fabrication des semi-conducteurs ?
Il retire sélectivement les films de nitrure de silicium, tout en gravant l'oxyde de silicium beaucoup plus lentement. Les températures de bain typiques sont d'environ 160 °C. Les applications comprennent le retrait de masques de nitrure dans les composants logiques et mémoire, et le retrait des couches de nitrure dans les empilements de NAND 3D, même si des chimies formulées peuvent être nécessaires pour les empilements plus hauts.
Quelle différence entre l'acide phosphorique de qualité électronique et de qualité industrielle ?
Les deux peuvent avoir à peu près la même teneur, par exemple 85 % : la différence tient donc à la maîtrise des impuretés. La qualité industrielle publiée par Rasa limite le fer à 5 ppm ou moins, tandis que les qualités électroniques fixent des limites plus basses élément par élément et contrôlent aussi les particules par taille. La qualité EL-S de Rin, par exemple, admet au plus 200 particules par mL à 0,2 µm et plus.
Qui fabrique de l'acide phosphorique de qualité semi-conducteur ?
Les sources publiques citent notamment Rasa Industries (Japon, Taïwan et sa société coréenne affiliée SoulbrainRASA), Rin Kagaku Kogyo (Japon), OCI (Corée du Sud) et Soulbrain RASA TX (usine prévue au Texas). Cette liste n'est pas complète, et les qualités et sites de chaque fournisseur doivent être confirmés directement auprès de lui.
Quand la seconde usine taïwanaise de Rasa commencera-t-elle à livrer ses clients ?
Rasa ne l'a pas dit. Elle prévoit l'achèvement à l'exercice 2028, mais n'a communiqué ni la capacité ni le début des livraisons après qualification par les clients. La qualification des matériaux pour semi-conducteurs prend du temps : prévoyez un écart entre l'achèvement et l'approvisionnement qualifié, et demandez au fournisseur son calendrier actuel.
L'acide phosphorique de haute pureté usagé peut-il être recyclé ?
Rasa y travaille. Le METI a certifié son plan en juillet 2023 au titre de la loi japonaise sur la promotion de la sécurité économique, à hauteur de 960 tonnes par an, avec des livraisons prévues à partir d'avril 2027, et Rasa cite la mise en pratique du recyclage dans son plan à moyen terme.
Demandez que le matériau recyclé soit identifié, car il nécessite sa propre évaluation.
Sources
- Nouvelle usine, raisons, ventes de RTT, taux de change en yens : Rasa Industries, communiqué sur la nouvelle usine de sa filiale consolidée, 30 septembre 2026 (en japonais)
- Ventes, carte d'approvisionnement, extension à Taïwan, ventes liées aux semi-conducteurs : Rasa Industries, présentation des résultats de l'exercice clos en mars 2026 (en japonais)
- SoulbrainRASA Co., Ltd., droits de vote : Rasa Industries, rapport annuel de valeurs mobilières déposé en juin 2026 (en japonais)
- Voie de fabrication et spécification de la qualité industrielle : Rasa Industries, page produit « acide phosphorique » (en japonais)
- Qualités EL et EL-S, limites de particules, emballage : Rin Kagaku Kogyo, acide phosphorique de haute pureté (en japonais)
- Domaine d'application et révision en vigueur : SEMI, « SEMI C36 - Specification for Phosphoric Acid » (en anglais)
- Mesure des métaux traces : Agilent, note d'application « Determination of Trace Metal Impurities in Semiconductor Grade Phosphoric Acid by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS » (en anglais)
- Gravure monoplaquette, température, maîtrise du silicium : Shibaura Mechatronics, série SC300-HT (en japonais)
- Présentation des étapes amont : SCREEN Semiconductor Solutions, procédé de fabrication des semi-conducteurs (en japonais)
- Retrait du nitrure en NAND 3D : Entegris, « Considerations for Improving 3D NAND Performance, Reliability, and Yield » (2018, en anglais)
- Sélectivité supérieure à 100:1, comportement de la silice, température et non-uniformité : Bassett, Printz et Furukawa (Tokyo Electron), résumé, 228e réunion de l'ECS, 2015 (en anglais)
- Sélectivité de 30:1 à 165 °C : Garnier et al. (STMicroelectronics), résumé, 228e réunion de l'ECS, 2015 (en anglais)
- Sélectivité d'un bain neuf et usagé, ajout d'eau : Brevet américain 6 699 400
- Maîtrise du silicium, saturation en silice, particules : Brevet américain 8 834 671
- Ajout d'acide neuf pour rétablir le niveau de silicium : Brevet américain 8 409 997
- Teneur en silicium et vitesse de gravure de l'oxyde, silice colloïdale : Brevet américain 10 325 779
- Procédé thermique et voie humide : The Essential Chemical Industry, « Phosphoric acid » (en anglais) ; Wikipedia, « Phosphoric acid » (en anglais)
- Classification de danger et point de congélation : Fiche de données de sécurité de la solution d'acide phosphorique, University of Illinois (en anglais) ; fiche technique Glentham (en anglais)
- Projet du Texas : Bureau du gouverneur du Texas, 4 juin 2026 (en anglais) ; Area Development, 11 juin 2026 (en anglais)
- Approvisionnement et capacité d'OCI : KED Global, « OCI supplies ultrapure phosphoric acid to SK Hynix », 2 septembre 2024 (en anglais)
- Approvisionnement au lieu de consommation, part de marché mondiale, exemple IRDS : Mitsubishi Gas Chemical, présentation de l'activité produits chimiques électroniques, 2 octobre 2024 (en japonais)
- Usine d'IPA : Tokuyama, communiqué, 20 mai 2026 (en japonais)
- Acquisition d'AUECC : Sumitomo Chemical, communiqué, 20 novembre 2025 (en japonais)
- Plan de recyclage : METI, résumé du plan d'assurance d'approvisionnement certifié n° 16-1 (en japonais)
- Taux du dollar US : ValutaFX, USD/TWD au 30 septembre 2026 (en anglais)
Article original en japonaisCe guide est adapté d’un article de MONOSCOPE écrit pour les lecteurs au Japon : 半導体用高純度リン酸とは｜ラサ工業が台湾に188億円の新工場を建てる理由
À propos de la rédaction
Rédaction de MONOSCOPEFOUNDER & EDITORUne dizaine d’années chez un fabricant d’équipements industriels et dans une société d’ingénierie d’usines, à la proposition, à la conception et à la mise en service d’équipements, puis un passage au marketing numérique. Aujourd’hui, conseil web auprès de fabricants B2B pour les aider à expliquer clairement leurs produits et leurs technologies. Titulaire des licences nationales japonaises d’Energy Manager et d’ingénieur électricien en chef de troisième classe.
Un blog d’ingénierie tenu depuis 2017 (plus de 500 articles) et une chaîne YouTube en japonais d’environ 20 000 abonnés. Chaque guide est rédigé du point de vue de l’atelier japonais et vérifié au regard des normes citées.
