Kyselina fosforečná pro polovodiče: závod Rasa na Tchaj-wanu

Dodavatel vám oznámí, že další šarže kyseliny fosforečné mohou přijít z nového závodu na Tchaj-wanu, v Koreji nebo v USA. Název produktu i deklarovaná čistota zůstávají stejné. Zajímá vás ale hlavně to, zda se kyselina bude ve vaší horké lázni chovat stejně a kolik kvalifikační práce to bude stát.

Polovodičová kyselina fosforečná je leptadlo, které odstraňuje nitrid křemíku (Si₃N₄) a oxid křemičitý (SiO₂) téměř nechává na místě. Dne 30. září 2026 oznámila japonská firma Rasa Industries, která o sobě uvádí, že má u tohoto produktu největší světový podíl, druhý závod v Tchaj-čungu na Tchaj-wanu. Investice činí asi 3,8 mld. NT$ (zhruba 18,8 mld. jenů, tedy přibližně 119 mil. USD).

Článek vysvětluje chemii leptání, rozdíl mezi elektronickou a technickou jakostí a to, kde Rasa a další dodavatelé kyselinu vyrábějí. Pak se věnuje tomu, co by měl kupující ověřit před schválením nového místa výroby. Kontrolní seznam, otázky pro japonskou stranu a vzor e-mailu najdete ve druhé polovině textu.

Proč to řešit v Česku? Máme tu vlastní výrobu čipů, například onsemi v Rožnově pod Radhoštěm, a čipy končí i v automobilkách. Netvrdíme, že některý český závod odebírá kyselinu od Rasy; zdroj může potvrdit jen dodavatel.

Obsah

1. Co dělá horká kyselina fosforečná ve fabu
2. Technická vs. elektronická jakost: obsah není čistota
3. Co Rasa oznámila
4. Kde se kyselina vyrábí: Japonsko, Tchaj-wan, Korea a USA
5. Proč dodavatelé chemikálií staví závody u fabů
6. Co se změní, když japonský dodavatel otevře zahraniční závod
7. Poznámky pro evropský provoz
8. Kontrolní seznam: kvalifikace nového místa dodávek
9. Otázky pro japonskou stranu
10. Limity tohoto článku
11. Časté dotazy
12. Zdroje

Co dělá horká kyselina fosforečná ve fabu

Přední část výroby (front-end) opakuje stále dokola jednu smyčku: nanést vrstvu, vytvořit v ní obrazec, leptat a čistit. Vysoce čistá kyselina fosforečná patří k mokrému leptání, kde vrstvu rozpouští kapalina. Rasa svůj produkt popisuje jako chemikálii pro mokré leptání v přední části výroby logických a paměťových čipů (NAND a DRAM).

Nitrid křemíku je tvrdý a odolný vůči chemikáliím. Proto slouží jako maska chránící spodní vrstvy a jako izolační nebo ochranná vrstva. Když splní svůj úkol, běžně se odstraňuje tak, že se wafer ponoří do kyseliny zahřáté asi na 160 °C. Výsledek ukazuje obrázek 1.

Obrázek 1: Selektivní leptání nitridu v horké kyselině fosforečné (schéma)

Cílem je odstranit jen nitrid křemíku a oxid pod ním ponechat téměř celý.

Nitrid křemíku (odstranit)Oxid křemičitý (ponechat)Křemíkový substrát

Silně zjednodušené schéma. Tloušťka a tvar vrstev se podle procesu liší a malé množství oxidu se také odleptá.

Suché a mokré leptání jsou v této smyčce samostatné kroky. Obrázek 2 ukazuje, kde krok s kyselinou fosforečnou leží, což se hodí při rozhovoru s nákupem nebo logistikou, kteří ve fabu nepracují.

Obrázek 2: Místo kyseliny fosforečné ve smyčce přední části výroby

Nanášení vrstev, tvorba obrazce, leptání a čištění se opakují desítkykrát. Kyselina fosforečná obstarává část leptání.

Tvorba obrazce

01Nanášení vrstevNa wafer se nanese oxid, nitrid, kov nebo jiná vrstva

02LitografieObrazec obvodu se přenese do rezistu

03Suché leptáníPlynem nebo plazmatem se vrstva odstraní podle obrazce

Odstranění a čištění

04Mokré leptáníChemikálie rozpouštějí vrstvy. Horká kyselina fosforečná odstraňuje nitrid

05ČištěníChemikálie odstraňují částice, kovy a organické nečistoty

06Další vrstvaPodle potřeby dopování nebo planarizace, pak znovu od nanášení

Pořadí i počet kroků se podle součástky liší. Redakce zjednodušila podle přehledu procesu společnosti SCREEN.

Selektivita: rychlost leptání nitridu vs. oxidu

Selektivita je poměr rychlosti leptání nitridu k rychlosti leptání oxidu. Při poměru 50:1 například lázeň odstraní 50 nm nitridu na každý 1 nm oxidu. Zveřejněné hodnoty se velmi liší, protože závisí na vrstvě, teplotě a stavu lázně.

Příklady níže pocházejí z konkrétních uspořádání. Berte je jako kontext, nikoli jako cíl nebo specifikaci.

• Asi 24:1, po zhruba 1 000 waferech s nitridem 50:1 a více: čerstvá lázeň oproti téže lázni po zpracování asi 1 000 waferů, podle amerického patentu popisujícího proces při asi 165 °C
• 30:1: 85% kyselina při 165 °C při odstraňování spacerů u technologie 28 nm (STMicroelectronics, 2015)
• Více než 100:1: správně vyladěná horká lázeň pro 3D NAND (Tokyo Electron, 2015)

Rozdíl mezi čerstvou a použitou lázní je třeba si zapamatovat. Kyselina, kterou koupíte, určuje výchozí stav. Co se stane dál, rozhodují zařízení a řízení vaší lázně.

Obsah křemíku: úzké okno

Rozpuštěný křemík zpomaluje leptání oxidu: čím více křemíku v lázni, tím nižší rychlost leptání oxidu. Leptáním nitridu se do kyseliny dostávají vedlejší produkty obsahující křemík a lázně se obvykle navíc předem dosycují oxidem křemičitým. Proto může být použitá lázeň selektivnější než čerstvá.

Tentýž křemík ale působí hlavní riziko. Nad kritickou hodnotou se vylučuje z roztoku jako oxid křemičitý. Jeden americký patent uvádí nasycení asi 120 ppm při 165 °C a vyloučený oxid označuje za významný zdroj částic, které snižují výtěžnost.

Obrázek 3 ukazuje tento kompromis.

Obrázek 3: Kompromis při obsahu křemíku (koncepční schéma)

Křemík pomáhá selektivitě, dokud se nezačne vylučovat. Lázeň musí zůstat mezi oběma mezemi.

PŘÍLIŠ MÁLOVětší ztráta oxiduOxid se leptá rychleji, selektivita klesá

V OKNĚStabilní leptáníNitrid se leptá a rychlost leptání oxidu zůstává nízká

PŘÍLIŠ MNOHOVylučuje se oxid křemičitýRoste na odkrytém oxidu a přidává částice

Hodnoty nejsou uvedeny, protože okno závisí na zařízení, teplotě, vrstvě a chemii. Určuje ho vlastník procesu.

Výrobci zařízení s tímto oknem počítají. Shibaura Mechatronics uvádí, že její jednowaferový stroj SC300-HT drží kyselinu na 160 °C a více a řízením obsahu křemíku dosahuje vysoké selektivity. Patenty popisují také doplňování čerstvé horké kyseliny k obnově hladiny křemíku a doplňování deionizované vody za odpařenou.

Proto čistý analytický certifikát (certificate of analysis, CoA) otázku neuzavírá. Kyselina se musí po zahřátí a opakovaném použití ve vašem zařízení chovat stabilně, takže nový zdroj je nutné vyhodnotit ve skutečném procesu.

3D NAND: odstranění nitridu ze strany

Struktura 3D NAND střídá vrstvy oxidu a nitridu a nitrid se později odstraňuje v bočním směru. Leptání ho musí odebírat rovnoměrně nahoře i dole ve struktuře i napříč waferem a přitom nenapadat oxid. Entegris popsal tento krok v bílé knize z roku 2018 jako problém mokrého leptání, jakmile poměr stran dosáhne asi 50:1.

Podle téže práce se pod 96 vrstvami používala horká kyselina fosforečná při asi 160 °C, zatímco od 96 vrstev výš je pro dostatečnou procesní rezervu potřeba speciálně formulovaná chemie. Entegris formulované chemikálie prodává, čtěte to proto jako pohled dodavatele a ověřte, co používá váš vlastní uzel.

Obavy vzbuzuje i oxid křemičitý: patenty popisují koloidní oxid, který roste na odkrytém oxidu a brání odstranění nitridu. Výzkumníci Tokyo Electron přičítali nerovnoměrnost v rámci waferu i mezi wafery hlavně rozdílům teploty v lázni.

Nejdřív proto rozhodněte, zda kupujete běžnou kyselinu elektronické jakosti, nebo formulované leptadlo. Vyžadují různé otázky.

Technická vs. elektronická jakost: obsah není čistota

Obsah (japonsky ganryo, 含量, anglicky assay) říká, kolik H₃PO₄ kapalina obsahuje. I technická kyselina se běžně dodává asi 85%, takže vysoký obsah o vhodnosti pro fab nic neříká. U polovodičů jsou přísnější otázky jiné: kolik kyselina obsahuje kovů, například železa a sodíku, a kolik nese částic.

Obrázek 4 srovnává obě jakosti na zveřejněných příkladech dvou japonských výrobců.

Obrázek 4: Technická a polovodičová kyselina fosforečná

Obě jsou H3PO4, ale kupující sleduje jiné položky a s mnohem přísnější kontrolou.

Technická nebo potravinářská jakost

Polovodičová (elektronická) jakost

Hlavní použití

Fosforečnany, povrchová úprava kovů, chemické leštění hliníku, potravinářská přísada

Mokré leptání v přední části výroby (odstranění nitridu)

Obsah

Jakosti jako min. 75 %, 85 % a 89 % (Rasa)

Řízený, s důrazem na malý rozptyl. Hodnotu a toleranci ověřte u dodavatele

Kovové nečistoty

Udávané v ppm. Železo max. 5 ppm, arsen max. 0,5 ppm (Rasa)

Nižší limity po jednotlivých prvcích. Limity ověřte u dodavatele

Částice

Ve zveřejněné technické specifikaci Rasy položka částic není

Počítají se podle velikosti. Rin EL-S: max. 200/ml při 0,2 µm a větších

Jak se kvalita potvrzuje

Specifikace a výstupní kontrola

Výstupní kontrola, navíc vyhodnocení a kvalifikace v procesu zákazníka

Hodnoty jsou zveřejněné příklady jednotlivých produktů, Rasa (technická jakost) a Rin Kagaku Kogyo (EL-S), nikoli limity platné pro celý obor.

Od ppm k ppt

Zveřejněných hodnot pro elektronickou jakost je málo. Rin Kagaku Kogyo uvádí limity částic pro nejvyšší jakost EL-S (200/ml při 0,2 µm, 70/ml při 0,3 µm a 20/ml při 0,5 µm) a ostatní dotazy odkazuje na obchodní oddělení. Rozhodují vaše vlastní specifikace fabu a řízená specifikace dodavatele.

SEMI C36 (aktuální revize C36-1121) je specifikace organizace SEMI pro jakosti kyseliny fosforečné používané ve výrobě polovodičů a její zkušební metody musí splňovat požadavky validace SEMI C1. Je placená, proto její limity nereprodukujeme. Zeptejte se, kterou jakost a revizi produkt dodavatele splňuje, pokud nějakou.

Pro představu o směru se podívejte na jinou chemikálii. Mitsubishi Gas Chemical cituje mezinárodní plán pro součástky a systémy z roku 2022 (IRDS) pro 30% peroxid vodíku od dodavatele.

Plán zpřísňuje limit pro každý kov z 10 dílů na bilion (ppt) v roce 2021 na 5 ppt od roku 2024 a u částic 20 nm z 500/ml na 200/ml do roku 2027. Nejde o limity pro kyselinu fosforečnou.

Součástí specifikace je i měření. Stopové kovy v 85% polovodičové kyselině lze měřit hmotnostní spektrometrií s indukčně vázaným plazmatem (ICP-MS); aplikační zpráva firmy Agilent uvádí meze detekce na úrovni ppt, měřené v kyselině zředěné asi 100×. Výsledek „pod X“ moc neznamená, dokud neznáte hranici hlášení každé laboratoře.

Termický vs. mokrý způsob výroby

Japonské dokumenty používají pro to, čemu se anglicky obvykle říká thermal process, výraz kanshiki-ho (乾式法, „suchý“ způsob). Žlutý fosfor se spálí na oxid fosforečný, který pak reaguje s vodou. Při mokrém způsobu (shisshiki-ho, 湿式法) se fosfátová hornina rozkládá kyselinou sírovou nebo jinou kyselinou.

Rasa uvádí, že používá cestu přes žlutý fosfor, a Rin říká, že své elektronické jakosti vyrábí suchým způsobem s malým množstvím nečistot. Kyselina z mokrého způsobu nese víc nečistot z horniny, ale lze ji dál čistit, takže samotná cesta produkt nekvalifikuje ani nediskvalifikuje. Zapište si ji ale, abyste věděli, kdyby se někdy změnila.

Co Rasa oznámila

Rasa Industries, založená v roce 1913, vyrábí fosforové chemikálie, vysoce čisté materiály pro složené polovodiče a drticí a tunelovací stroje. Tržby ve fiskálním roce končícím v březnu 2026 činily 47,7 mld. jenů (asi 303 mil. USD) a vysoce čistá kyselina fosforečná z toho tvořila 16,8 mld. jenů, tedy 35,2 %. Prvenství na světovém trhu je tvrzení samotné Rasy, které jsme nezávisle neověřovali.

Obrázek 5 shrnuje oznámení. Všechny částky v dolarech v tomto článku jsou naše hrubé přepočty podle kurzů uvedených v poznámce k obrázku.

Obrázek 5: Druhý závod na Tchaj-wanu v číslech

Rozšíření stávajícího závodu bylo spuštěno v dubnu 2026. Nový závod je další krok.

Celková investice3,8 mld. NT$Asi 18,8 mld. ¥, zhruba 119 mil. USD

Plocha areálu17 200 m²Asi 185 000 čtv. stop, pronajatý pozemek

Plánované dokončeníFY2028Ve stejném průmyslovém parku jako závod 1

Tržby dceřiné firmy2,1×Za 5 let, 2020 až 2025

Fáze investic ve firmě Rasa Technology Taiwan

KROK 1Rozšíření stávajícího závoduAsi 3 mld. ¥ (asi 19 mil. USD). Zvyšuje kapacitu na Tchaj-wanu o 40 %. Spuštěno v dubnu 2026

KROK 2Druhý závodAsi 18,8 mld. ¥. Rasa také míří na automatizaci výroby a expedice. Dokončení plánováno na FY2028

NEZVEŘEJNĚNOKapacita a termínKapacita nového závodu a začátek dodávek po kvalifikaci u zákazníků

Zdroje: oznámení Rasy z 30. září 2026 a její prezentace výsledků za rok končící v březnu 2026. Hodnoty v jenech používají kurz Rasy 1 NT$ = 4,94 ¥ (30. září 2026). Hodnoty v dolarech jsou naše přepočty při kurzu 31,89 NT$ = 1 USD, což je střední tržní kurz ke stejnému dni a odpovídá asi 157,5 ¥ = 1 USD.

Stavitelem je Rasa Technology Taiwan Ltd. (RTT, 理盛精密科技), stoprocentní dceřiná společnost založená v prosinci 2003 v okrese Wuqi v Tchaj-čungu.

Druhý závod vyroste ve stejném parku jako první, v Taichung Port Technology Industrial Park (臺中港科技產業園區). Rasa ho zaplatí z vlastních prostředků a z úvěrů.

Rasa uvedla tři důvody investice:

• Tchaj-wan je jedním z předních světových center výroby polovodičů, zaměřeným na pokročilou logiku.
• Generativní AI a datová centra budou podle očekávání dál zvyšovat poptávku po polovodičích.
• Poptávka po větším množství vysoce čisté kyseliny fosforečné na Tchaj-wanu sílí.

Tržby RTT vzrostly z 1 232 mil. NT$ v roce 2020 na 2 592 mil. NT$ v roce 2025. Číslo zahrnuje vliv cen a sortimentu, takže jej nečtěte jako růst objemu. Rasa také očekává jen malý dopad na výsledky fiskálního roku končícího v březnu 2027, takže závod není krátkodobou událostí v zásobování.

Oznámení neuvádí kapacitu, zákazníky ani datum prvních kvalifikovaných dodávek. „FY2028“ také není vázáno na měsíc. Fiskální rok Rasy končí v březnu a rok RTT v prosinci, zeptejte se proto, který kalendář platí.

Kde se kyselina vyrábí: Japonsko, Tchaj-wan, Korea a USA

Rasa říká, že vedle kvality je její silnou stránkou výroba a prodej na místě. Obrázek 6 ukazuje její mapu dodávek, jak ji v červnu 2026 představila investorům.

Obrázek 6: Závody skupiny Rasa na vysoce čistou kyselinu fosforečnou a hlavní zákazníci

Závody leží v regionech s koncentrací fabů a zásobují hlavně zákazníky v tomto regionu.

Závod

Hlavní zákazníci

Japonsko

Závod Osaka

Japonští výrobci čipů a tchajwanští a američtí výrobci čipů vyrábějící v Japonsku

Tchaj-wan

RTT, konsolidovaná dceřiná firma (kapacita +40 % v dubnu 2026, závod 2 ve FY2028)

Tchajwanští výrobci čipů a američtí výrobci čipů vyrábějící na Tchaj-wanu

Jižní Korea

Korejský společný podnik (přidružená firma konsolidovaná vlastním kapitálem)

Korejští výrobci čipů

USA

Nový americký závod korejského společného podniku (dokončení plánováno v první polovině 2027)

Tchajwanští, korejští a američtí výrobci čipů vyrábějící v Severní Americe

Zdroj: prezentace výsledků Rasy za rok končící v březnu 2026. Prezentace uvádí jako trh také čínské, korejské a tchajwanské výrobce čipů vyrábějící v Číně, ale její plán výroby ve čtyřech zemích závod v Číně nezahrnuje.

Výroční zpráva Rasy pro burzu jmenuje korejskou přidruženou firmu jako SoulbrainRASA Co., Ltd. v Kongdžu v provincii Jižní Čchungčchong, přičemž Rasa drží 39,0 % hlasovacích práv. Rasa tuto firmu nekonsoliduje, nepředpokládejte tedy, že pracuje podle systému kvality Rasy ani že Rasa může odpovídat za data z jejího závodu.

Prezentace Rasy americké místo nejmenuje. V červnu 2026 oznámil úřad guvernéra Texasu státní grant ve výši 11,6 mil. USD pro Soulbrain RASA TX LLC na jeho první americké výrobní zařízení v Tayloru v Texasu. Projekt přesahuje 120 mil. USD a první fáze cílí na 28 800 metrických tun ročně „vysoce selektivní, vysoce čisté“ kyseliny fosforečné.

Název i produkt odpovídají popisu Rasy, ale žádný dokument obě věci výslovně nespojuje a jeden obchodní zpravodaj označuje texaskou firmu za dceřinou společnost Soulbrain Holdings. Berte souvislost jako nepotvrzenou. Při posuzování tohoto zdroje se zeptejte, komu závod patří a čí specifikace platí.

Rasa není jedinou možností. Tabulka níže uvádí další dodavatele, které se dalo potvrdit z veřejných zdrojů; není to úplný seznam trhu.

Dodavatel	Sídlo	Co se dalo potvrdit
Rin Kagaku Kogyo	Japonsko	Jakost EL (leptání elektronických materiálů) a EL-S (leptání polovodičových waferů), vyráběné suchým způsobem. EL-S se dodává v kanystrech 25 nebo 30 kg, sudech 300 kg a cisternách 10 t
OCI	Jižní Korea	Roční kapacita 25 000 t. V září 2024 uvedla, že je první korejskou firmou, která dodává vysoce čistou kyselinu fosforečnou všem korejským výrobcům čipů, včetně Samsung Electronics, SK Hynix, SK Keyfoundry a DB HiTek (tvrzení OCI, jak je převzal KED Global)
Soulbrain RASA TX	USA (Taylor, Texas)	Cíl první fáze 28 800 metrických tun ročně podle úřadu guvernéra Texasu (červen 2026). Datum zahájení provozu oznámení neuvádí

Proč dodavatelé chemikálií staví závody u fabů

Oznámení Rasy uvádí poptávku, ale o důležitosti polohy říká málo. Přímější je Mitsubishi Gas Chemical, která tvrdí, že má asi 50 % světového trhu s ultračistým peroxidem vodíku. Výrobu poblíž místa spotřeby popisuje jako způsob, jak rychle reagovat na zákazníky a držet nízko logistické náklady, a uvádí, že blízkost zrychluje i zpětnou vazbu zákazníků k novým produktům.

Kyselina fosforečná má vlastní logistické potíže. Zveřejněné technické jakosti Rasy uvádějí relativní hustotu od 1,58 a více do 1,73 a více, koncentrovaná kyselina je tedy těžká na přepravu. Bezpečnostní listy, které jsme prošli, řadí 85% kyselinu pod UN1805, třída 8, obalová skupina III, a většina uvádí bod tuhnutí nebo tání kolem 21 °C. Zeptejte se proto dodavatele, jak produkt chrání při přepravě a v chladném skladu.

Místní závod kupujícímu pomáhá, ale ne automaticky. Obrázek 7 staví vedle sebe pravděpodobné přínosy a to, co je ještě nutné prokázat.

Obrázek 7: Místní výroba z pohledu kupujícího

Levý sloupec použijte pro obchodní zdůvodnění, pravý pro plán kvalifikace.

Co může místní závod nabídnout

• Kratší dopravní vzdálenost, nižší logistické náklady a menší riziko při přepravě
• Dodávky, které mohou růst s vaším náběhem nebo novou linkou
• Užší koordinace zásob a termínů dodávek
• Rychlejší zpětná vazba mezi výsledky vašeho procesu a dodavatelem
• Záloha pro případ katastrof a logistických výpadků, pokud je kvalifikováno víc míst

Co je ještě nutné prokázat

• Produkt nového místa projde vaším vyhodnocením a kvalifikací
• Suroviny a analytika vysoké čistoty jsou na místě zajištěny
• Závod má vyškolené lidi a čas, aby dosáhl kvality původního místa
• Regionální poptávka závod dlouhodobě uživí
• Dodavatel unese závod i dluhy v době útlumu

Obecné body uspořádané redakcí. Nejsou to položky, které Rasa uvedla jako důvod svého rozhodnutí.

Dokončení závodu neznamená kvalifikované dodávky. Po výstavbě musí dodavatel ještě poskytnout vzorky, projít vyhodnocením v procesu zákazníka a získat formální schválení. Tuto mezeru zahrňte do plánu zásobování, protože zveřejněné datum se týká jen dokončení.

Kapacitu na Tchaj-wanu budují nebo kupují i další japonští dodavatelé procesních chemikálií. Chemikálie i použití se liší, projekty proto podle velikosti nesrovnávejte.

Firma	Chemikálie	Krok na Tchaj-wanu	Načasování
Rasa Industries	Vysoce čistá kyselina fosforečná (leptání nitridu)	Druhý závod u dceřiné firmy v Tchaj-čungu	Oznámeno v září 2026, dokončení plánováno na FY2028
Tokuyama	Vysoce čistý isopropylalkohol (IPA)	Druhý závod, 30 000 t ročně, ve firmě Formosa Tokuyama Advanced Chemicals v Kaohsiungu (společný podnik 50/50 s Formosa Plastics)	Oznámeno v květnu 2026, zahájení provozu plánováno na září 2028
Mitsubishi Gas Chemical	Ultračistý peroxid vodíku (čištění)	Provozuje na Tchaj-wanu závod na ultračistý peroxid vodíku	Ke stavu prezentace z října 2024
Sumitomo Chemical	Procesní chemikálie pro polovodiče	Dohodla koupi všech akcií Asia Union Electronic Chemical Corporation (Tchaj-pej) se závody v Kaohsiungu a v Nevadě	Oznámeno v listopadu 2025, tehdy s výhradou schválení

Kupujícího zajímají i poptávkové cykly. Tržby Rasy související s polovodiči zahrnují suroviny pro kondenzátory, vločkovací činidla pro leptání a vysoce čisté materiály pro složené polovodiče. Klesly z 24,3 mld. ¥ v roce končícím v březnu 2023 na 19,6 mld. ¥ o rok později a pak vzrostly na 24,4 mld. ¥ v roce končícím v březnu 2026 (51,1 % všech tržeb).

Zeptejte se, jak funguje přidělování dodávek (alokace), když se trh zúží, protože dodavatel tak vystavený čipům čelí stejnému cyklu jako vy.

Podle našeho čtení mají oba kroky Rasy různý účel. Tchaj-wan přidává zásobování rostoucích zákazníků, zatímco americký závod následuje výrobu čipů do nového regionu. Stejná logika platí pro kupující: spoléhat na jeden region nebo jedno místo znamená soustředit riziko.

Co se změní, když japonský dodavatel otevře zahraniční závod

Body níže jsou obecným redakčním pohledem na to, co zkoumat, nikoli zjištěními o Rase. Jak se s nimi naloží, určuje dohoda o kvalitě dodavatele ve vašem fabu.

• Vaše data se nemusí přenést. Značka zůstává, ale výsledky kvalifikace pocházejí z jiného závodu. Zda nové místo počítat jako nový zdroj, rozhoduje váš útvar kvality.
• Technická pravomoc může být jinde. Místní závod může uvolňovat šarže, zatímco proces vlastní mateřský závod (maza kojo, マザー工場) v Japonsku. Zjistěte, kdo může schválit odchylku a jak rychle.
• Cesty surovin se mohou lišit. Místo může vycházet z jiného zdroje fosforu nebo dokončovat meziprodukt vyrobený jinde. Rasa to pro své závody nezveřejnila.
• Laboratoře se mohou rozcházet. Dvě laboratoře testující stejnou šarži blízko mezí detekce mohou hlásit různé výsledky, proto žádejte korelaci laboratoří mezi místy.
• Dokumenty mohou vznikat japonsky. Zeptejte se, která jazyková verze je závazná pro specifikaci (kikakusho, 規格書), analytický certifikát (shiken seisekisho, 試験成績書) a oznámení o změnách.
• Automatizace může být změna. Rasa uvádí, že v novém závodě bude pracovat na automatizaci výroby a expedice. Ptejte se, zda se kroky plnění a expedice liší od místa, které jste kvalifikovali.

Do diskuse může vstoupit i recyklace. Japonské ministerstvo hospodářství, obchodu a průmyslu (METI) certifikovalo v červenci 2023 plán Rasy na vybudování technologie recyklace vysoce čisté kyseliny fosforečné s kapacitou 960 t ročně a dodávkami plánovanými od dubna 2027. Pokud se recyklovaná kyselina nabízí, žádejte její samostatné označení a s útvarem kvality se dohodněte, jak se bude vyhodnocovat.

Poznámky pro evropský provoz

Následující body jsou naše obecná upozornění, nikoli právní ani normativní stanovisko. Při řešení konkrétního případu je ověřte u dodavatele a u osoby odpovědné za BOZP a chemickou bezpečnost.

• Normy: pro jakosti kyseliny fosforečné ve výrobě polovodičů jsme našli jako referenci SEMI C36. Odpovídající norma ČSN EN pro ni mezi dostupnými zdroji nefigurovala, takže v dokumentech uvádějte přímo SEMI C36 a jeho revizi a nepředpokládejte ekvivalent.
• Chemická bezpečnost: kyselina dodaná v EU má mít bezpečnostní list podle nařízení REACH a klasifikaci podle nařízení CLP. Zkontrolujte, že list platí pro konkrétní produkt a místo výroby, a že je k dispozici v češtině.
• Doprava: pro silniční přepravu v Evropě platí ADR. Klasifikaci (UN1805, třída 8, obalová skupina III podle listů, které jsme viděli) si nechte potvrdit pro svou trasu a obal.
• BOZP: horká koncentrovaná kyselina je nebezpečná. Postupy práce, osobní ochranné pracovní prostředky a havarijní opatření se řídí vnitřními předpisy závodu, českou legislativou BOZP a bezpečnostním listem dodavatele, ne tímto článkem.

Kontrolní seznam: kvalifikace nového místa dodávek

Použijte tento seznam při zahájení vyhodnocení nového místa. Říká, co shromáždit, zatímco počty šarží, testovací wafery a kritéria schválení určuje váš vlastní plán kvalifikace.

• Produkt: běžná kyselina, nebo formulované leptadlo, název jakosti, kód produktu a případně deklarovaná jakost SEMI C36
• Místo a vlastnictví: právnická osoba, adresa závodu, mateřská firma nebo partneři společného podniku a kdo podepisuje dohodu o kvalitě
• Výrobní cesta: termická, nebo mokrá, zdroj fosforu, čištění, filtrace a plnění
• Specifikace: obsah a tolerance, kovy po jednotlivých prvcích, anionty, křemík, částice podle velikosti a u každé položky zkušební metoda a hranice hlášení
• Srovnávací data: data po sobě jdoucích šarží z nového místa vedle kvalifikovaného místa a korelace laboratoří
• Vyhodnocení v procesu: rychlosti leptání nitridu a oxidu v průběhu životnosti lázně, chování oxidu křemičitého a přírůstek částic na vaší vlastní skladbě vrstev
• Balení a logistika: typ a materiál obalu, čištění obalu, teplota při přepravě, riziko zamrznutí, doba použitelnosti a klasifikace nebezpečnosti na skutečné trase
• Řízení změn: co spouští oznámení, s jakým předstihem a zda oznámení přicházejí v angličtině
• Kontinuita: záložní místo, pojistná zásoba a pravidla přidělování při nedostatku
• Životní prostředí, zdraví a bezpečnost: místní bezpečnostní list, místní povolení a nakládání s použitou kyselinou

Otázky pro japonskou stranu

Pošlete je včas, nejlépe před dokončením závodu. Písemný dotaz pomáhá, protože odpovědi mohou muset projít ústředím v Japonsku.

• Které místo bude náš produkt vyrábět a je produkt z tohoto místa už kvalifikován v některém fabu? (Jména zákazníků nejsou potřeba.)
• Vyrábí se tato kyselina termickým způsobem (kanshiki-ho), nebo mokrým (shisshiki-ho)? Je cesta ve všech místech stejná?
• Používají všechna místa stejný zdroj fosforu a stejné kroky čištění a filtrace?
• Můžete sdílet řízenou specifikaci včetně kovů po prvcích, částic podle velikosti a hranic hlášení?
• Splňuje produkt některou jakost SEMI C36? Kterou a v jaké revizi?
• Provedla vaše místa korelaci laboratoří na stejných šaržích? Můžeme vidět výsledky?
• Kdy budou k dispozici vzorky z nového závodu a kdy očekáváte objemové dodávky po kvalifikaci?
• Jak vypadá váš postup oznamování změn 4M (člověk, stroj, materiál, metoda)?
• Kdo vlastní proces a může schvalovat odchylky: místní závod, nebo ústředí v Japonsku?
• Které místo vyvíjí metody čištění a analýzy a kde by se s námi vyhodnocovala chemie příští generace?
• Bude v našem produktu použita nějaká regenerovaná nebo recyklovaná kyselina?

Vzor dotazu e-mailem

Dotaz se obvykle posílá japonskému dodavateli, proto je vzor v angličtině. Upravte ho podle své situace, doplňte údaje v závorkách a vypusťte vše, co vám dohoda o mlčenlivosti nedovoluje sdílet.

Subject: High-purity phosphoric acid: evaluation of [site name] for [our site]

Dear [Name],

We use high-purity phosphoric acid for silicon nitride wet etching at our [location] fab, and we would like to evaluate supply from your [site name] plant.

Could you please send the following by [date]?

1. Grade name and controlled specification, including assay, metals by element, particles by size, test methods, and reporting limits
2. Production route and main process steps at this site, and any differences from [currently qualified site]
3. Data from recent consecutive lots, plus lab correlation results between sites
4. Packaging options, transit temperature control, and the shipping route to our site
5. Your change notification procedure and notice period
6. Expected dates for samples and for volume supply after qualification

Our expected volume is about [tons per month] starting around [date]. We can sign an NDA if needed. Please let us know which person in your company handles technical questions in English.

Best regards,
[Name, title, company]

Limity tohoto článku

• Hodnoty selektivity a údaj o nasycení oxidem křemičitým pocházejí z patentů a abstraktů konferencí pro konkrétní uspořádání. Nejsou doporučením pro proces.
• Limity pro elektronickou jakost jsou většinou nezveřejněné. Placený text SEMI C36 jsme neprošli a limity kovů pro váš produkt musí poskytnout dodavatel.
• Horká kyselina fosforečná je nebezpečná. Článek není pracovním postupem, řiďte se předpisy svého závodu a bezpečnostním listem dodavatele.
• Zda nové místo vyžaduje úplnou, nebo částečnou rekvalifikaci, závisí na vašem fabu, uzlu a dohodě o kvalitě.
• Údaje o firmách vycházejí z oznámení dostupných ke stavu z listopadu 2026. Přepočty na dolary jsou hrubým vodítkem, nikoli vykazovanými čísly.
• Poznámky o evropských předpisech jsou obecné upozornění a v tomto vydání jsme je neověřovali v primárních zdrojích.

Časté dotazy

K čemu se horká kyselina fosforečná používá ve výrobě polovodičů?

Selektivně odstraňuje vrstvy nitridu křemíku, zatímco oxid křemičitý leptá mnohem pomaleji. Typická teplota lázně je asi 160 °C. Používá se k odstranění nitridových masek u logických a paměťových součástek a k odstranění vrstev nitridu ve strukturách 3D NAND, ve vyšších strukturách však mohou být nutné formulované chemikálie.

Jaký je rozdíl mezi kyselinou fosforečnou elektronické a technické jakosti?

Obě mohou mít zhruba stejný obsah, například 85 %, rozdíl je tedy v kontrole nečistot. Zveřejněná technická jakost Rasy omezuje železo na 5 ppm a méně, zatímco elektronické jakosti stanovují nižší limity po prvcích a řídí také částice podle velikosti. Jakost EL-S firmy Rin například připouští nejvýše 200 částic/ml při 0,2 µm a větších.

Kdo vyrábí polovodičovou kyselinu fosforečnou?

Veřejné zdroje uvádějí mimo jiné Rasa Industries (Japonsko, Tchaj-wan a korejská přidružená firma SoulbrainRASA), Rin Kagaku Kogyo (Japonsko), OCI (Jižní Korea) a Soulbrain RASA TX (plánovaný závod v Texasu). Není to úplný seznam a jakosti i místa výroby je třeba ověřit přímo u každého dodavatele.

Kdy začne druhý závod Rasy na Tchaj-wanu dodávat zákazníkům?

Rasa to neuvedla. Dokončení plánuje ve fiskálním roce 2028, ale kapacitu ani začátek dodávek po kvalifikaci u zákazníků nezveřejnila. Polovodičové materiály se kvalifikují dlouho, počítejte proto s mezerou mezi dokončením a kvalifikovanými dodávkami a ptejte se dodavatele na aktuální harmonogram.

Dá se použitá vysoce čistá kyselina fosforečná recyklovat?

Rasa na tom pracuje. METI certifikovalo její plán v červenci 2023 podle japonského zákona o podpoře hospodářské bezpečnosti, s kapacitou 960 t ročně a dodávkami plánovanými od dubna 2027, a Rasa uvádí praktické využití recyklace ve svém střednědobém plánu.

Žádejte, aby byl recyklovaný materiál označen, protože vyžaduje vlastní vyhodnocení.

Zdroje

• Nový závod, důvody, tržby RTT, kurz k jenu: Rasa Industries, oznámení o novém závodě konsolidované dceřiné firmy, 30. září 2026 (japonsky)
• Tržby, mapa dodávek, rozšíření na Tchaj-wanu, tržby související s polovodiči: Rasa Industries, prezentace výsledků za rok končící v březnu 2026 (japonsky)
• SoulbrainRASA Co., Ltd., hlasovací práva: Rasa Industries, výroční zpráva pro burzu podaná v červnu 2026 (japonsky)
• Výrobní cesta a specifikace technické jakosti: Rasa Industries, stránka produktu kyselina fosforečná (japonsky)
• Jakosti EL a EL-S, limity částic, balení: Rin Kagaku Kogyo, vysoce čistá kyselina fosforečná (japonsky)
• Rozsah a aktuální revize: SEMI, „SEMI C36 - Specification for Phosphoric Acid“
• Měření stopových kovů: Agilent, aplikační zpráva „Determination of Trace Metal Impurities in Semiconductor Grade Phosphoric Acid by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS“
• Jednowaferové leptání, teplota, řízení křemíku: Shibaura Mechatronics, řada SC300-HT (japonsky)
• Přehled přední části výroby: SCREEN Semiconductor Solutions, výrobní proces polovodičů (japonsky)
• Odstraňování nitridu ve 3D NAND: Entegris, „Considerations for Improving 3D NAND Performance, Reliability, and Yield“ (2018)
• Selektivita nad 100:1, chování oxidu křemičitého, teplota a nerovnoměrnost: Bassett, Printz a Furukawa (Tokyo Electron), abstrakt, 228. setkání ECS, 2015
• Selektivita 30:1 při 165 °C: Garnier et al. (STMicroelectronics), abstrakt, 228. setkání ECS, 2015
• Selektivita čerstvé a použité lázně, doplňování vody: US patent 6 699 400
• Řízení křemíku, nasycení oxidem křemičitým, částice: US patent 8 834 671
• Doplňování čerstvé kyseliny k obnově hladiny křemíku: US patent 8 409 997
• Obsah křemíku a rychlost leptání oxidu, koloidní oxid křemičitý: US patent 10 325 779
• Termický a mokrý způsob: The Essential Chemical Industry, „Phosphoric acid“; Wikipedia, „Phosphoric acid“
• Klasifikace nebezpečnosti a bod tuhnutí: Bezpečnostní list roztoku kyseliny fosforečné, University of Illinois; Datasheet Glentham
• Projekt v Texasu: Úřad guvernéra Texasu, 4. června 2026; Area Development, 11. června 2026
• Dodávky a kapacita OCI: KED Global, „OCI supplies ultrapure phosphoric acid to SK Hynix“, 2. září 2024
• Výroba v místě spotřeby, světový podíl, příklad IRDS: Mitsubishi Gas Chemical, prezentace o byznysu elektronických chemikálií, 2. října 2024 (japonsky)
• Závod na IPA: Tokuyama, tisková zpráva, 20. května 2026 (japonsky)
• Akvizice AUECC: Sumitomo Chemical, tisková zpráva, 20. listopadu 2025 (japonsky)
• Plán recyklace: METI, shrnutí certifikovaného plánu zajištění dodávek č. 16-1 (japonsky)
• Kurz dolaru: ValutaFX, USD/TWD k 30. září 2026
• Závod onsemi v Rožnově pod Radhoštěm (kontext pro české čtenáře): Yahoo Finance, „Onsemi to invest $2bn in Czech Republic semiconductor plant expansion“